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等離子清洗機(jī),Wafer晶圓光刻膠去除

2022-3-25  閱讀(1528)

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等離子清洗機(jī)的表面處理可用于高分子材料、復(fù)合材料、金屬、陶瓷、纖維等材料的表面清洗、活化和刻蝕等工藝,以提高材料的表面能與附著力,改善其粘接性、可印刷性、色牢度等。等離子清洗機(jī)清洗工藝已被廣泛應(yīng)用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫(yī)療器械等領(lǐng)域,等離子清洗機(jī)不會改變材料表面特性和外觀,能夠?qū)Σ牧献龅?清洗,工藝可控


等離子清洗機(jī)(Plasma Cleaner)又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合,通過等離子清洗機(jī)的表面處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂.


等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于光電、電子、聚合物科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微流體力學(xué)等領(lǐng)域。例如:準(zhǔn)確清洗小零件和微零件;涂膠前激活塑料零件;腐蝕和去除聚四氟乙烯、光刻膠等各種材料;以及疏水和親水涂層。減摩涂層等零件。等離子清洗機(jī)還可以處理金屬。半導(dǎo)體。氧化物和大多數(shù)聚合物材料;可以精細(xì)清洗整體、局部和復(fù)雜的結(jié)構(gòu);

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采用plasma等離子清洗機(jī)針對晶圓表面處理之后,可以獲得鉆孔小,對表面和電路的損傷小,達(dá)到清潔、經(jīng)濟(jì)和安全的作用。plasma等離子清洗機(jī)的簡單處理,就能通過等離子產(chǎn)生的自由基將高分子聚合物*清除干凈,包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物,plasma等離子清洗機(jī)可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除掉,等離子清洗機(jī)能有效去除晶圓表面殘膠。




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