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晶圓芯片的等離子體活化處理,等離子清洗機(jī)

2020-10-17  閱讀(2025)

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IC芯片制造領(lǐng)域中,等離子清洗機(jī)已是一種不可替代的成熟工藝,不論在芯片源離子的注入,還是晶元的鍍膜,低溫等離子體表面處理設(shè)備所能達(dá)到的:在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性

等離子清洗機(jī),清洗活化晶圓芯片的工作原理:

在使用等離子去膠機(jī)(等離子清洗機(jī))中,我們都知道,去膠氣體為氧氣。把需要清洗的晶片放入真空等離子去膠機(jī)反應(yīng)系統(tǒng)中,受高頻及微波能量效果,電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子、氧分子和電子等混合的等離子體形成輝光柱。具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子在高頻電壓效果下與光刻膠膜反應(yīng)完成。

真空等離子去膠機(jī)的使用優(yōu)勢在于它使用操作相對簡單,去膠率更高,表面也比較干凈光潔無劃痕,成本低,環(huán)保。

等離子清洗機(jī)的的更多優(yōu)點:

超精細(xì)清洗(元件清洗)不會損傷敏感結(jié)構(gòu)
等離子清洗機(jī)對表面進(jìn)行選擇性地功能化處理以便進(jìn)行后續(xù)的加工
精益的工藝布局,顯著的成本節(jié)約
粘接工藝中的不良率降低

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