【工業(yè)除臭設(shè)備概述】

工業(yè)除臭設(shè)備用來除臭、清除異味的廢氣處理設(shè)備，普遍應(yīng)用于工廠、車間、污水站、垃圾廠等。結(jié)構(gòu)簡單，并且擁有能耗低、凈化效率高和適用范圍廣等特點(diǎn)。

【工業(yè)除臭設(shè)備工作原理】

工業(yè)除臭設(shè)備的工作原理是惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到紫外光光催化廢氣處理設(shè)備后,紫外光除臭設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

光催化廢氣處理設(shè)備是在外界可見光的作用下發(fā)生催化作用,光催化氧化反應(yīng)是半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機(jī)物降解為CO2和H2O。翌駿環(huán)保采用的半導(dǎo)體是目前反應(yīng)效率高的納米TiO2光催化劑。在光催化氧化反應(yīng)中，光催化有機(jī)廢氣處理設(shè)備通過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上產(chǎn)生電子空穴對，與表面吸附的水份(H2O)和氧氣(O2)反應(yīng)生成氧化性很活波的氫氧自由基(OH-)和超氧離子自由基(O2-)。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、胺類、酚類、氮氧化物、硫化物、及其它VOC類有機(jī)物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它無毒無害物質(zhì)，由于在光催化氧化反應(yīng)過程中無任何添加劑，所以不會(huì)產(chǎn)生二次污染。

【工業(yè)除臭設(shè)備特點(diǎn)】

1、結(jié)構(gòu)簡單，占地面積小，也可直接建于污染源的上方，不另外占用地方。

2、反應(yīng)速度快，停留時(shí)間極短(僅為幾秒)，處理效果好，控制反應(yīng)條件惡臭物質(zhì)可被分解掉。

3、啟動(dòng)、停止十分快捷，即開即用，不受氣溫影響，沒有生物法復(fù)雜的生物馴化和培養(yǎng)過程，操作極為簡單，無需派專職人員看守。

4、反應(yīng)過程只需用電，不用投加其他輔助藥劑和填料，因此節(jié)省藥劑和填料的采購、運(yùn)輸、儲(chǔ)存、管理等一系列繁瑣的事務(wù)，可大大節(jié)省人力和運(yùn)行費(fèi)用。

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