ICP-MS是一個以質(zhì)譜儀作為檢測器的等離子體，ICP-AES和ICP-MS的進樣部分及等離子體是極其相似的。ICP-AES測量的是光學光譜（120nm-800nm），ICP-MS測量的是離子質(zhì)譜，提供在3-250amu范圍內(nèi)每個原子質(zhì)量單位（amu）的信息。還可進行同位素測定。尤其是其檢出限給人極深刻的印象，其溶液的檢出限大部分為ppt級，石墨爐AAS的檢出限為亞ppb級，ICP-AES大部分元素的檢出限為1-10ppb，一些元素也可得到亞ppb級的檢出限。但由于ICP-MS的耐鹽量較差，ICP-MS的檢出限實際上會變差，多大50倍。一些輕元素（如S、Ca、Fe、K、Se）在ICP-MS中有嚴重的干擾，其實際檢出限也很差。

這集中分析技術(shù)的分析性能可以從下面幾個方面進行比較：容易使用程度：在日常工作中，從自動化來講，ICP-AES是ZUICHENGSHU的，可有技術(shù)不熟練的人員來應用ICP-AES專家制定的方法進行工作。ICP-MS的操作直到現(xiàn)在仍然較為復雜，盡管近年來在計算機控制和智能化軟件方面有很大的進步，但在常規(guī)分析前仍需由技術(shù)人員進行精密的調(diào)整，ICP-MS的方法研究也是很復雜及耗時的工作。GF-AAS的常規(guī)工作雖然是比較容易的但制定方法仍需要相當熟練的技術(shù)。分析試液中的總固體溶解量（TDS）：在常規(guī)工作中，ICP-AES可分析10％TDS的溶液，甚至可以高至30％的鹽溶液。在短時期內(nèi)ICP-MS可分析0.5％的溶液，但在大多數(shù)情況下采用不大于0.2％TDS的溶液為佳。當原始樣品是固體時，與ICP-AES，GP-AAS相比，ICP-MS需要更高的稀釋倍數(shù)，折算到原始固體樣品中的檢出限就顯示不出很大的優(yōu)勢了。線性動態(tài)范圍（LDR）：ICP-MS具有超過10以上的LDR，各種方法可使其LDR開展至10。但不管如何，對ICP-MS來說：高基體濃度會使分析出現(xiàn)問題，而這些問題的好解決方案是稀釋。因此，ICP-MS應用的主要領(lǐng)域在痕量/超痕量分析。GF-AAS的LDR限制在10-10，如選用次靈敏線可進行高一些濃度的分析。ICP-AES具有10以上的LDR且抗鹽份能力強，可進行痕量及主要元素的測定，ICP-AES可測定的濃度高達百分含量，因此，ICO-AES可以很好地滿足實驗室主、次、痕量元素常規(guī)分析的需要。精密度：ICP-MS的短期精密度一般是1-3％RSD，這是應用多內(nèi)標法在常規(guī)工作中得到的。ICP-AES的短期精密度一般為0.3-1％RSD，幾個小時的長期精密度小于3％RSD。GF-AAS的短期精密度為0.5-5％RSD，長期精密度的因素不在于時間而視石墨管的使用次數(shù)。樣品分析能力：ICP-MS和ICP-AES的分析能力體現(xiàn)在其可以多元素同時測定上。ICP-AES的分析速度取決于是采用全譜直讀型還是單道掃描型，每個樣品所需的時間為2或6分鐘，全譜直讀型較快，一般為2分鐘測定一個樣品。GF-AAS的分析速度為每個樣品中每個元素需要3-4分鐘，可以無人自動工作，可保證其對樣品的分析能力。運行的費用：ICP-MS運行費用要高于ICP-AES，因為ICP-MS的一些部件如分子渦輪泵、取樣錐和截取錐以及檢測器有一定的使用壽命而且需要更換。ICP-AES主要是霧化器與炬管的消耗，這和ICP-MS一樣，其使用壽命是相同的。GF-AAS則主要是石墨管的使用壽命及其費用。這三種技術(shù)均使用Ar氣，其消耗量是一筆相當?shù)馁M用，ICP技術(shù)的Ar費用遠高于GF-AAS。                      

根據(jù)分析溶液中待測元素的濃度來看，若每個樣品測定1－3個元素，元素濃度為亞或低于ppb級，如果被測元素要求能夠滿足的情況下，選用GF-AAS是合適的；若每個樣品5－20個元素，含量為亞ppm至％，選用ICP-AES是合適的；如果每個樣品需測4個以上的元素，在亞ppb含量，而且樣品的數(shù)量也相當大，選用ICP-MS是較合適的。可以看出ICP-AES是比較理想的分析方法，是實驗室應當配置的常規(guī)分析手段。如果實驗室選用了ICP-AES來取代ICP-MS，那么實驗室好能配備GF-AAS。這一配置可以滿足一般實驗室對于主、次、痕量成分分析的需要。ICP-AES法在冶金分析應用上可能出現(xiàn)的大困難在于如何解決光譜干擾問題。這也是ICP分析技術(shù)發(fā)展中需要不斷解決的研究課題。IVP-AES法基體效應，可以應用內(nèi)標法來解決例如霧化室效應、試樣與標準溶液之間粘度差異所帶來的基體效益；背景較高可以采用離線背景校正，應用動態(tài)背景校正對提高準確度也是很有效的。IVP-AES法大的干擾是譜線干擾，其光譜線數(shù)量很大而且光譜線干擾也較難解決。有記載的ICP-AES譜線有50000多條，元素間的譜線干擾及基體的譜線干擾也就很嚴重。因此，對某些樣品例如鋼鐵、冶金產(chǎn)品的分析必須采用使用高分辨率的ICP-AES儀器，盡量把可能干擾的譜線分開。各種分子粒子（如OH）的譜線或譜帶對某些低含量的被測元素也帶來干擾，影響其樣品分析中的實際檢出限。因此使用CCD陣列檢測器的儀器，以便準確快速地得到待測譜線及相鄰背景信息，并對分析譜線和背景進行同步測量，可實現(xiàn)離峰法測量而避開譜線干擾，或采用MSF法或IEC法扣除干擾。選擇每個元素的適宜分析條件或加入電離緩衡劑（如過量的I族元素）可以減少易電離元素的影響。綜上所述，可以認為、：在日常工作中ICP-AES分析技術(shù)是ZUICHENGSHU的，可由技術(shù)不熟練的人員應用ICP-AES技術(shù)人員制定的分析方法來進行工作。在常規(guī)工作中，ICP-AES 可分析10％TDS的溶液，甚至可以高至30％的鹽溶液。ICP-AES具有106以上的線性范圍LDR且抗鹽份能力強，可以同時進行痕量及主要元素的測定，ICP-AES可同時直接測定0.001-60％的濃度含量。ICP-AES外加ICP-MS，或GF-AAS便可很好地滿足實驗室的分析需要。對于每個樣品分析5-20個元素，含量在亞ppm至％，使用ICP-AES是合適的。ICP-AES和GF-AAS由于現(xiàn)代自動化設(shè)計以及使用惰性氣體的安全性，可以整夜無人看管工作。因此，ICP儀器必將成為冶金分析實驗室的基本配置，其分析技術(shù)在冶金分析中發(fā)揮越來越重要的作用。