廢氣治理煙囪、排氣筒等
氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)
技術(shù)方案
一、概況
根據(jù)貴方提出的排氣筒測量需求，公司所推出的SK-7500-GAS-JY型、SK-7500-GAS-Y型氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)可以連續(xù)監(jiān)測TVOC、SO2、NOX、02、NH3等多項相關(guān)參數(shù)。SK/MIC-600-PM-JDY插入式粉塵濃度檢測儀監(jiān)測顆粒物濃度，SK-6500-4Y顆粒物濃度主機控制報警器。
固定污染源氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)是東日瀛能科技針對環(huán)境中固定污染源的煙氣、廢氣等氣體進行實時在線監(jiān)測的一種氣體檢測產(chǎn)品；是集氣體采樣、氣體過濾、氣體降溫除濕、流量控制、實時濃度顯示、無線數(shù)據(jù)上傳、環(huán)保聯(lián)網(wǎng)、本地聲光報警、設備聯(lián)動等功能為一體的標準化、模塊化、專業(yè)化揮發(fā)性氣體檢測儀系統(tǒng)集成產(chǎn)品；產(chǎn)品采用專業(yè)三防設計，直接戶外使用；氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)經(jīng)主動采樣、專業(yè)樣氣預處理后，將干凈、干燥、恒定的樣氣送至氣體檢測儀表。具體反應速度更快、抗干rao能力更強、測量更精準、壽命長久等特點；無線HJ 212協(xié)議數(shù)據(jù)上傳，可無縫對接當?shù)丨h(huán)保監(jiān)測平臺；因其zhuo越性能和良好表現(xiàn)，不僅可以作為企業(yè)內(nèi)的有組織或無組織的氣體排放使用，還可以為環(huán)保監(jiān)測等部門提供數(shù)據(jù)決策支持。
SK-7500-GAS-JY 氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)適用于常溫（-20℃～+50℃）、高壓、負壓、潮濕、含焦油、含粉塵的監(jiān)測環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）
SK-7500-GAS-Y 固定污染源氣體在線監(jiān)測預處理系統(tǒng)適用于高溫（-20℃～+200℃）、高壓、潮濕、含油、含水、含粉塵的惡劣監(jiān)測環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）
SK/MIC-600-PM-JDY插入式粉塵濃度檢測儀適用于高溫（0℃～250℃）（260℃-800℃可定制）、濕度正常的環(huán)境。
二、執(zhí)行標準
GB3836.1-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設備 第一部分：通用要求》
GB3836.2-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設備 第二部分：隔爆型“d" 》
GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設備第 15 部分：危險場所電氣安裝( 煤礦除外) 》
GBT50493-2019 《石油化工可燃氣體和有毒氣體檢測報警設計標準》
GB12358-2006 《作業(yè)場所環(huán)境氣體檢測報警儀通用技術(shù)要求》
GBZ 2.1-2007 《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值》
GB 4208-2008 《外殼防護等級（IP 代碼）》
GB 16297－1996《大氣污染物綜合排放標準》
GB/T 16157-1996《固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法》
HJ/T 76-2017《固定污染源排放煙氣連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測方法》
三、設計方案
3.1監(jiān)測參數(shù)
在線監(jiān)測因子：TVOC、SO2、NOX、HCL、硫酸霧、氨氣、顆粒物等參數(shù)可定制。
3.2監(jiān)測方法
廢氣采樣方法：泵吸取樣
TVOC監(jiān)測原理：PID光離子
SO2、NOX、HCL、硫酸霧、氨氣監(jiān)測原理：電化學
顆粒物監(jiān)測原理：靜電感應
3.3安裝位置
廢氣與顆粒物采樣點：萃取排氣筒；氨氣凈化塔；流化床、篩分、天然氣燃燒、排氣筒；蒸汽熱源機排氣筒
分析儀表：戶外站房或雨棚
3.4公用工程條件
廢氣監(jiān)測設備電源：220VAC，50HZ，200瓦 用于設備供電。4-20MA、RS485等多種信號輸出，既可方便接入 PLC、DCS、DDC 等工控系統(tǒng)，也可以作為單機控制使用；
顆粒物監(jiān)測設備電源：24VDC
該裝置為機、電、儀一體化成套分析控制裝置。包含取樣探頭、探頭反吹、取樣管線、預處理單元、機柜等部分；系統(tǒng)整體采用分析機柜式結(jié)構(gòu)，成套裝置由分析機柜組件和安裝在工藝管線上的取樣探頭組件構(gòu)成。（根據(jù)具體工況而定）
3.5.1分析機柜組件
分析機柜內(nèi)包含以下單元：
a.預處理單元
預處理單元由冷凝器、蠕動泵、電磁閥、抽氣泵、減壓閥、精細過濾器、轉(zhuǎn)子流量計等組成；其功能是完成樣氣的凈化、除塵、穩(wěn)壓、穩(wěn)流。最后將符合分析儀要求的干凈、流量穩(wěn)定的被測樣氣，源源不斷送入分析儀器，從而確保了分析儀器的準確性和長期可靠性。
b.分析單元
分析儀采用電化學法對SO2、NOX進行測量，采用PID光離子法對TVOC進行測量。
c.控制單元
本系統(tǒng)采取自動取樣、自動反吹等工作方式，可以搭配工廠中的風機、閥門、噴淋系統(tǒng)等設備來使用，通過內(nèi)部開關(guān)量信號實現(xiàn)聯(lián)動。此外，其監(jiān)測數(shù)據(jù)還可以通過專用配套軟件實時接收，并且可以實現(xiàn)多路統(tǒng)一管理以及數(shù)量的擴充。存儲的數(shù)據(jù)還可以任意選取時間段進行查詢，曲線顯示，數(shù)據(jù)EXCEL導出等，使得監(jiān)測數(shù)據(jù)一目了然。
3.5.2氣體污染物采樣器
煙氣氣態(tài)污染物采樣器（以下簡稱取樣探頭）
3.5.3氣體污染物檢測儀
型號 | SK/MIC-600-NY |
檢測原理 | 電化學/PID光離子 |
檢測量程 | SO2：0-300mg/m3，NOX:0-500mg/m3，O2:0-25%VOL，TVOC：0-200mg/m3 |
線性度 | ±1.5%F.S. |
示值誤差 | ≤±3% |
重復性 | <±1%F.S. |
零點漂移 | <±1%F.S. |
量程漂移 | <±1%F.S. |
工作溫度 | -20～50℃ |
響應時間（T90） | <30秒 |
輸出信號 | ①4-20mA信號：標準的12位精度4-20mA輸出芯片，傳輸距離1000m ②RS485信號：采用標準MODBUS RTU協(xié)議，傳輸距離1200m ③電壓信號：0.4-2V,0-5V、0-10V輸出，選配（電壓輸出與電流輸出二選一） ④開關(guān)量信號：標配1組無源觸點繼電器，容量220VAC 3A/24VDC 3A ⑤GPRS、4G、WIFI、LORA、ZigBee等無線信號 |
接收設備 | 用戶電腦、控制報警器、PLC、DCS、DDC等 |
防爆形式 | 探頭變送器及傳感器均為隔爆型。 |
防爆等級 | E xdIICT6 |
防護等級 | IP66 防水濺和短時間雨淋，長時間雨淋需選配防雨罩或選擇不帶顯示的外殼 |
3.6顆粒物監(jiān)測系統(tǒng)組成
SK/MIC-600-PM-JDY粉塵濃度檢測儀采用耐高溫、耐高壓設計，適用于各種工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境。一體化，二線制結(jié)構(gòu)，使得安裝使用變得極為簡單，可輕松接入用戶的自動化管理系統(tǒng)。實時對其上游設備的工況進行監(jiān)測，實現(xiàn)早期報警，方便對上游設備的檢修維護，以免造成浪費，以及對下游設備產(chǎn)生不必要的損傷。粉塵濃度檢測儀的應用，可在企業(yè)實施的節(jié)能增效過程中可起到輔助作用。
3.6.1插入式粉塵濃度檢測儀
操作環(huán)境溫度 | -20℃～60℃ （電子部件） |
操作環(huán)境濕度 | 濕度90% |
操作環(huán)境振動 | 連續(xù)震蕩量，任何方向、任何頻率：均方根值 2g (20m/s2) |
操作環(huán)境電磁場 | 在50赫茲時值=60A/m(相等于一個1米×1米正方形電磁線圈內(nèi)有50AT的磁場) |
操作環(huán)境保護 | 保護等級：IP66/NEMA4鋁合金殼體，適合非腐蝕性環(huán)境內(nèi)安裝，不銹鋼探針 |
管道氣體壓力 | -0.1–1MPa |
管道氣體流速 | 1m/s～30m/s |
管道氣體溫度 | 0℃～250℃（260℃-800℃可定制） |
探針結(jié)構(gòu) | 標準探針是φ16mm，長度100mm-1000mm，探針材質(zhì)：不銹鋼 |
粉體材料 | 包括：粉塵，煤粉，面粉，灰塵，煙塵，石墨，二氧化錳，生石灰等各種顆粒物 |
零點漂移 | (時間)每年低于量程的1%。 |
零點漂移 | (溫度)在zhi定的溫度范圍內(nèi)，低于量程的1%。 |
滿量程漂移 | (時間)每年低于量程的1% |
滿量程漂移 | (溫度)在zhi定的溫度范圍內(nèi)，低于量程的1%。 |
線路穩(wěn)定性 | 系統(tǒng)所有部件均選用高穩(wěn)定性電子組裝件。 |
噪音抵抗性 | 所有50或60赫茲音頻和諧波均在信號被接收之前全部濾掉 |
測量范圍 | 0-10mg/50mg/100mg/600mg/1000mg/30g/100g/m3 |
變送器輸出方式 | 二線制4–20mA（內(nèi)置隔離器，防爆防干擾），RS485（選配） |
變送器電源 | 24V(15V～32V范圍內(nèi)可用) |
測量精度 | ±5% |
3.6.2主機控制報警器
型 號 | SK-6500-Y | ||
顯示內(nèi)容 | 氣體名稱、量程單位、實測值、時間、報警狀態(tài)、歷史數(shù)據(jù)等 | ||
測量單位 | ppm、ppb、%LEL、%VOL、mg/m3、mg/L、g/m3、ug/m3、%rh、℃、MPa、KPa、Pa等 | ||
輸入電源 | AC220V | 功 耗 | 小于 7W |
輸出電源 | DC24V/2A | 安裝模式 | 壁掛式 |
響應時間 | ≤30S | 報警設定 | 4 種模式自由設定 |
接收信號 | 4-20MA、RS485（標準 ModbusRTU 協(xié)議） | 報警模式 | 蜂鳴器報警 |
工作溫度 | -20～50℃ | 工作濕度 | 0～95%RH 無凝露 |
存 儲 | U盤存儲歷史數(shù)據(jù)：格式為CSV，可存儲10萬條記錄，可U盤導出、打印或刪除數(shù)據(jù)；(＞48通道的沒有歷史數(shù)據(jù)） U盤存儲報警記錄（選配），格式為CSV，可存儲2000條記錄，可U盤導出、打印或刪除數(shù)據(jù)。 | ||
輸出觸點 | 默認4個常開觸點，觸點容量30V/3A或250V/3A，繼電器模塊可擴展輸出觸點可交叉配置 | ||
尺 寸 | 330*270*115mm（長*寬*高），采用向左開門結(jié)構(gòu)。 | ||
3.7系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
3.7.1系統(tǒng)界面與數(shù)據(jù)儲存、導出
在線監(jiān)控系統(tǒng)是本公司自行開發(fā)的針對煙氣連續(xù)排放連續(xù)監(jiān)控系統(tǒng)。本系統(tǒng)實時監(jiān)測從分析儀傳輸過來的數(shù)據(jù)，存儲到數(shù)據(jù)庫，可選配顯示當前的排放率、排放總量及系統(tǒng)報表顯示與輸出。
可通過485接口采集濃度數(shù)據(jù)，并實現(xiàn)存儲、匯總、報表輸出、向數(shù)采儀發(fā)送數(shù)據(jù)等功能。
對于比較簡單的應用，例如脫硫效率監(jiān)測，分析儀可以將數(shù)據(jù)直接通過4-20mA或485發(fā)送的PLC/DCS等工控系統(tǒng)。
四、系統(tǒng)配置清單
序號 | 貨品名稱 | 型號規(guī)格 | 數(shù)量 | 備注 |
1.煙氣在線監(jiān)測預處理系統(tǒng) | ||||
1.1 | 抽取式預處理機柜 | 高效過濾器 | 1套 | |
采樣泵 | 1套 | |||
降溫除濕冷凝器 | 1套 | 選配 | ||
轉(zhuǎn)子流量計 | 1套 | |||
漏電開關(guān) | 1套 | |||
24V電源 | 1套 | |||
蠕動泵 | 1套 | 選配 | ||
散射風扇 | 2套 | 選配 | ||
節(jié)流閥 | 2套 | |||
減壓閥 | 1套 | 選配 | ||
7寸觸摸顯示屏 | 1套 | 選配 | ||
標定氣接口 | 1套 | 選配 | ||
反吹電磁閥 | 1套 | 選配 | ||
1.2 | 氣體污染物分析儀 | SK/MIC-600-NY | 1套 | |
1.3 | 軟管 | ￠6 | ||
1.4 | 伴熱管 | \ | 30米 | 選配 |
2.顆粒物監(jiān)測子系統(tǒng) | ||||
2.1 | 插入式粉塵濃度檢測儀 | SK/MIC-600-PM-JDY | 1套 | |
3.系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集子系統(tǒng) | ||||
4.1 | 主機控制器 | SK-6500-4Y | 1臺 | |
4.2 | 無線傳輸模塊 | \ | 1個 | 選配 |
4.3 | 數(shù)采儀 | \ | 1個 | 選配 |
東日瀛能可燃氣體檢測報警器量程參照法規(guī)：
關(guān)于有毒有害氣體接觸限值與其濃度多少時對人體的危害等相關(guān)問題，請咨詢東日瀛能銷售人員。
常用氣體選型表
檢測氣體 | 量程 | 允許 誤差值 | 最小讀數(shù) | 響應時間T90 |
可 燃氣(E X) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
可 燃氣(E X) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-30%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氮 氣(N 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-50000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-20%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
臭 氧(O 3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-5ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
臭 氧水(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-40000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氦 氣(H e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氬 氣(A r) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氙 氣(X e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-30ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-5 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-25 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-2000 ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 1%LEL | ≤30秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴化 氫(HB r) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
(B2 H6) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-2ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N 2 H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N 2 H4) | 0-300ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
四氫 噻吩(TH T) | 0-100mg/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.01 mg/m3 | ≤60秒 |
溴 氣(B r2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 醛（C2 H4O） | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 胺(C H5N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
典 氣(I 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯乙 烯(C2H3 CL) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氯 乙烯(C2H CL3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
四氯 乙烯(C2 CL4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
笑 氣(N 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氟 化氮(N F3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
過氧 化氫(H 2O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-200g/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.1g/m3 | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
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