高可信度超低殘留(接近于零)
無需清洗的超低殘留
當(dāng)通過清洗保持低殘留時,隨著分析數(shù)量的增加總時間也有所增加。Nexera自動采樣器無需清洗操作,亦可有效降低殘留。

在高靈敏度LC/MS/MS中超低殘留

LC/MS系統(tǒng)分析極低的樣品殘留。SIL-30ACMP系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了超低的殘留控制方法,即使對于像洗必泰這樣非常易殘留的混合物質(zhì)也幾乎沒有殘留。另外 SIL-30ACMP系統(tǒng)擁有經(jīng)改進(jìn)的清洗體系,可大大降低微量殘留。
低殘留帶來高靈敏度分析及定量精確度的改善
在多個組分的批次分析中,極性顯著不同的成分經(jīng)常進(jìn)行同時檢測。在這些檢測過程中,僅利用一種類型的清洗劑無法達(dá)到充分的清洗效果。為此,SIL-30ACMP不僅設(shè)計(jì)了特殊的硬件結(jié)構(gòu),可充分清洗易殘留的成分,同時還配置了改進(jìn)的清洗結(jié)構(gòu),以達(dá)到更低殘留。

針端口清洗機(jī)制
針端口是自動進(jìn)樣器中最易殘留的地方。在SIL-30ACMP系統(tǒng)的設(shè)計(jì)中,針端口可進(jìn)行自動清洗。
可支持多達(dá)四種清洗溶劑的多清洗機(jī)制
針頭表面可用多達(dá)兩種沖洗溶劑進(jìn)行沖洗。針頭內(nèi)部可用多達(dá)三種溶劑進(jìn)行沖洗。當(dāng)然,傳統(tǒng)的利用一種溶劑進(jìn)行沖洗的方法也是可行的。沖洗順序可按需求設(shè)定。
優(yōu)良的進(jìn)樣機(jī)制可保障痕量水平進(jìn)樣的精準(zhǔn)度
SIL-30ACMP系統(tǒng)支持范圍為0.1µL 到50µL的進(jìn)樣量。從UHPLC痕量水平的進(jìn)樣量到傳統(tǒng)機(jī)型中幾十微升的進(jìn)樣量范圍可得出線性相關(guān)度。SIL-30ACMP在進(jìn)樣量1 µL甚至更少的痕量水平時也可提供*的重復(fù)性。

如下圖所示,ID柱直徑為約2 mm的柱子是UHPLC系統(tǒng)中常用的柱子,易受樣品溶劑的影響且增加進(jìn)樣量較為困難。但是由于SIL-30ACMP系統(tǒng)可對痕量水平的進(jìn)樣量進(jìn)行高精準(zhǔn)度的進(jìn)樣,樣本溶劑的影響可以抑制,即使是預(yù)處理過的含有有機(jī)溶液的樣本直接注射也是如此。

在樣品溶劑極性大于流動相溶劑的情況下,進(jìn)樣量增加時,色譜峰會變形