污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2021-06-15 15:39:41瀏覽次數(shù)：388次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線NANOVEA微納米壓痕劃痕儀
美國(guó)NANOVEA公司的微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)是集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀四個(gè)功能模塊于一身，儀器采用模塊化設(shè)計(jì)，可在一款儀器下實(shí)現(xiàn)納米與微米/大載荷三個(gè)尺度下的壓痕，劃痕與摩擦磨損測(cè)試，進(jìn)而可得到硬度、彈性模量、蠕變信息、彈塑性、斷裂韌度、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、膜基結(jié)合力、劃痕硬度、摩擦系數(shù)、磨損率等微觀力學(xué)數(shù)據(jù)。 產(chǎn)品特性： - 模塊化設(shè)計(jì)：可在一臺(tái)儀器集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀4種儀器。 - 壓痕測(cè)試符合國(guó)際ISO14577與美國(guó)ASTM E2546標(biāo)準(zhǔn)，劃痕測(cè)試符合ISO 20502、1518、ASTM D7027、D1624、D7187、C171標(biāo)準(zhǔn)。 - 載荷加載系統(tǒng)：采用閉環(huán)載荷加載垂直加載，準(zhǔn)確性遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的開(kāi)環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù)，可保證施加載荷的精準(zhǔn)性。 - 載荷驅(qū)動(dòng)方式：高精度壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)，精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于電磁力驅(qū)動(dòng)。 - NANOVEA技術(shù)（號(hào)：EP0663068 A1 1995）高精度電容式傳感器來(lái)能夠保證系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測(cè)量可保證壓入深度與劃入深度實(shí)時(shí)測(cè)量。 - 采用encoder高精度光柵尺樣品臺(tái)，定位精度可達(dá)250nm以內(nèi)。 - 的熱飄逸控制技術(shù)：納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm> - 劃痕具有全景成像模式 - NANOVEA公司金剛石面積函數(shù)校準(zhǔn)技術(shù)（號(hào)：No. 3076153）只需要壓一次就可以對(duì)針尖面積函數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)精確測(cè)量。 主要技術(shù)參數(shù)： 1）納米壓痕儀： — 靜態(tài)加載模式加載載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN — 動(dòng)態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz — 載荷分辨率：3nN — 可實(shí)現(xiàn)的最小載荷：0.1mN — 加載速率：0.04-12000mN/min — 壓入深度（電容傳感器）： 250μm/1mm — 位移分辨率：0.0003nm — 快速壓痕功能：做100個(gè)mapping點(diǎn)只需5分鐘 — 熱飄逸<0.05nm>室溫條件下) 2）納米劃痕儀： — 劃痕正向力載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN — 載荷分辨率：3nN — 劃痕正向力最小載荷：0.1mN — 劃痕深度：250µm/1mm — 劃痕長(zhǎng)度：50mm — 劃痕速度：0.05-600mm/min — 位移分辨率：0.0003nm — 深度：250μm/1mm — 深度分辨率：0.0003nm — 摩擦力：400mN/1800mN — 摩擦力分辨率：7μN(yùn) 3）微米壓痕儀： — 加載載荷：40N/200N — 載荷分辨率：2.4μN(yùn) /12μN(yùn) — 載荷噪聲水平（RMS）：0.1mN/0.5mN — 可實(shí)現(xiàn)的最小載荷：2mN/10mN — 加載速率：0.01-500N/min / 0.05-1000N/min — 快速壓痕功能：做100個(gè)mapping點(diǎn)只需12分鐘 — 深度范圍（電容式傳感器）：1mm — 深度分辨率：0.01nm — 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm 4）微米劃痕儀： — 劃痕正向力載荷：40N/200 N — 劃痕正向力最小載荷：2mN/10mN — 劃痕深度：1mm — 深度分辨率：0.01nm — 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm — 劃痕長(zhǎng)度：50mm — 劃痕速度：0.1-1200mm/min — 摩擦力：20N/200N — 摩擦力分辨率：1.3mN/13mN 5）精密定位平臺(tái)： — XY方向移動(dòng)范圍：150mm*150mm — Z方向允許的樣品空間：150mm — 工作臺(tái)XY方向定位分辨率：10nm — 工作臺(tái)XY方向定位精度：250nm — Z方向可自動(dòng)移動(dòng)移動(dòng)范圍：50mm 6）光學(xué)金相顯微鏡成像系統(tǒng)： — 物鏡的放大倍率分別為：5X，10X，20X，50X，1000X — 總的放大倍率分別為：400X，800X，1600X，4000X，8000X， 7）原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)（高分辨率）： — XYZ方向掃描范圍：100µm *100µm *12µm — XY方向移動(dòng)分辨率：0.1nm — Z方向的測(cè)量分辨率：0.02nm
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