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廈門(mén)搏仕檢測(cè)設(shè)備有限公司
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廈門(mén)搏仕檢測(cè)設(shè)備有限公司
產(chǎn)品型號(hào)BOS-T180
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廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地廈門(mén)市
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更新時(shí)間：2024-11-06 13:49:15瀏覽次數(shù)：445次
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經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠(chǎng)家
商鋪產(chǎn)品：100條
所在地區(qū)：福建廈門(mén)市
聯(lián)系人：蘇 （銷(xiāo)售）
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 儀器種類(lèi) | 顆粒圖像分析儀 |
|---|---|---|---|
| 實(shí)際觀(guān)測(cè)范圍 | 1-6000μm |
顯微顆粒圖像分析儀 激光粒度儀是國(guó)內(nèi)蕞心一代靜態(tài)顆粒圖像分析設(shè)備，它采用蕞心的圖像采集系統(tǒng)與分析軟件，將計(jì)算機(jī)圖像學(xué)與顆粒粒度及粒形分析理論玩美結(jié)合，在獲得清晰的顆粒圖像的同時(shí)，將顆粒的粒度、球型度、長(zhǎng)徑比、龐大率、表面率等相關(guān)顆粒大小和形狀的表征參數(shù)以特征值和分布的形式呈現(xiàn)出來(lái)，使用戶(hù)可以詳細(xì)的了解顆粒。
一、顯微顆粒圖像分析儀 激光粒度儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介
BOS-T180是國(guó)內(nèi)蕞心一代靜態(tài)顆粒圖像分析設(shè)備，它采用蕞心的圖像采集系統(tǒng)與分析軟件，將計(jì)算機(jī)圖像學(xué)與顆粒粒度及粒形分析理論玩美結(jié)合，在獲得清晰的顆粒圖像的同時(shí)，將顆粒的粒度、球型度、長(zhǎng)徑比、龐大率、表面率等相關(guān)顆粒大小和形狀的表征參數(shù)以特征值和分布的形式呈現(xiàn)出來(lái)，使用戶(hù)可以詳細(xì)的了解顆粒。此外，該款儀器還賦予了自動(dòng)化、智能化能時(shí)代性的標(biāo)志、使其操作更簡(jiǎn)便、分析更智能、結(jié)果更穩(wěn)定，是顆粒粒度測(cè)試及粒形分析的手選搭檔和得力助手。
二、顯微顆粒圖像分析儀 激光粒度儀性能特點(diǎn)
直觀(guān)反映顆粒形貌 將顆粒的表面形貌直接反映到計(jì)算機(jī)屏幕，用戶(hù)可以直觀(guān)且荃面了解顆粒的表面及形狀屬性；
玩美拼接多幅圖像 將選取不同視場(chǎng)拍攝的多幅顆粒圖像拼接成一幅，使參與分析的顆粒數(shù)量更多，測(cè)試結(jié)果更具代表性；
自動(dòng)分割粘連顆粒 采用更的顆粒識(shí)別算法，對(duì)各種形狀的粘連顆粒都能自動(dòng)分割，顯著提高粘連顆粒分割準(zhǔn)確率，減少人為參與，有效縮短圖像處理時(shí)間；
自適應(yīng)二值化功能 采用一種自適應(yīng)二值化功能，使其進(jìn)行圖像二值化處理時(shí)不受拍攝光線(xiàn)的影響，避免了因光線(xiàn)不均勻等因素而導(dǎo)致顆粒信息丟失的情況，為后續(xù)處理的精準(zhǔn)度奠定基礎(chǔ)；
自動(dòng)處理顆粒圖像 顆粒圖像分析軟件含有自動(dòng)處理工具集，集成了二值化、肖除邊界不完整顆粒、肖除雜點(diǎn)、填充空洞、平滑邊緣、分割粘連顆粒、計(jì)算顆粒參數(shù)等功能的自動(dòng)操作，一鍵即可完成顆粒圖像處理到分析結(jié)果的生成等全部過(guò)程，操作簡(jiǎn)便且結(jié)果可靠；
自由切換粒徑單位 標(biāo)尺選取支持多種長(zhǎng)度單位、可在納米、微米和毫米之間自由切換，便于用戶(hù)對(duì)通過(guò)電鏡等其他方式獲取的顆粒圖片實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步處理；
快速處理特殊形狀顆粒 對(duì)于球形顆粒，采用讀特的處理算法，對(duì)原始圖片無(wú)需進(jìn)行任何處理而直接分析顆粒粒徑信息，即使顆粒顆粒之間相互粘連或重疊也不會(huì)影響分析結(jié)果，提高球形顆粒的分析效率。
三、適用范圍:
BOS-T180靜態(tài)顆粒圖像儀適用于水泥、陶瓷、藥品、涂料、樹(shù)脂、染料、顏料、填料、化工產(chǎn)品、催化劑、煤粉、泥砂、粉塵、面粉、食品、添加劑、農(nóng)藥、榨藥、石墨、感光材料、燃料、金屬與非金屬粉末、碳酸鈣、高嶺土及其他粉體行業(yè)。
四、技術(shù)參數(shù)
規(guī)格型號(hào) | BOS-T180 | |
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | ISO13322-1: 2004; GB/T21649.1-2008 | |
顯微系統(tǒng) | 物鏡 | 4X、10X、40X、60X、100X（油）長(zhǎng)距消色差（平場(chǎng)）物鏡組 |
目鏡 | 1X、10X、16X 大視野攝像目鏡 | |
載物臺(tái) | 手動(dòng)三維機(jī)械式載物臺(tái)，尺寸：185mm×140mm， 移動(dòng)范圍：50mm×75mm，粗微同軸調(diào)焦， 微動(dòng)格值：2μm,帶鎖緊和限位裝置 | |
光源 | 底部透射光源，6V 20W鹵素?zé)?亮度可調(diào)。可選頂部金相落射式光源（帶起偏振器） | |
總放大倍數(shù) | 4倍——1600倍 | |
攝像系統(tǒng) | 蕞高分辨率 | 2048×1536 |
像素尺寸 | 3.2μm×3.2μm | |
成像元件 | 1/1.8英寸 progress scan CMOS | |
幀率 | 6fps@2048×1536 / 10fps@1600×1200 / 15fps@1280×1024 / 30fps@640×480 | |
蕞高清晰度 | 900線(xiàn) | |
信噪比 | 小于42dB | |
敏感度 | 1.0V@550nm/lux/S | |
輸出方式 | USB2.0 | |
實(shí)際觀(guān)測(cè)范圍 | 1-6000μm | |
軟件功能 | 靜態(tài)采集 | 將樣品形貌拍攝為高清晰JPG圖片 |
圖片處理 | 使用多種畫(huà)圖工具對(duì)圖片進(jìn)行比較簡(jiǎn)單的處理 | |
圖像拼接 | 將多幅圖片進(jìn)行無(wú)縫拼接,在顆粒測(cè)試中能夠獲得更多的顆粒數(shù)量以提高測(cè)試的代表性。同時(shí)也可單張分析保存后再進(jìn)行拼接，進(jìn)一步提高了結(jié)果的準(zhǔn)確性。 | |
顆粒的自動(dòng)處理工具集 | 自動(dòng)肖除顆粒粘連、自動(dòng)肖除雜點(diǎn)、自動(dòng)肖除邊界不完整顆粒、自動(dòng)*顆粒的空心區(qū)域、自動(dòng)平滑顆粒邊緣等12項(xiàng)自動(dòng)處理工具。 | |
比例尺標(biāo)定 | 通過(guò)幗家標(biāo)準(zhǔn)測(cè)微尺標(biāo)定后，每次測(cè)試只須選擇與物鏡相對(duì)應(yīng)的比例尺數(shù)值即可直接得到顆粒的實(shí)際大小數(shù)值。 | |
單個(gè)顆粒數(shù)據(jù) | 可在圖片上直接對(duì)單個(gè)顆粒進(jìn)行截面積、體積、長(zhǎng)徑比等10多項(xiàng)參數(shù)的分析。 | |
任務(wù)管理機(jī)制 | 嚴(yán)格的任務(wù)管理機(jī)制，使用戶(hù)能夠?qū)⑺袦y(cè)試數(shù)據(jù)井井有條的管理起來(lái)。 | |
報(bào)告輸出 | 將測(cè)試結(jié)果輸出為報(bào)告，并可以自由修改報(bào)告樣式。 | |
整體分布特征參數(shù) | D10、D50（中位徑）、D90、D100等顆粒分布的特征參數(shù) | |
報(bào)告參數(shù) | 整體頻率分布累計(jì)分布 | 顆粒按數(shù)量、體積、面積等分布的頻率分布與累計(jì)分布的數(shù)據(jù)表、曲線(xiàn)圖、柱狀圖等。 |
統(tǒng)計(jì)平均徑 | Xnl、Xns、Xnv、Xls、Xlv、Xsv等常用的統(tǒng)計(jì)平均徑 | |
形狀參數(shù) | 長(zhǎng)徑比、龐大率、球型度、表面率、比表面積、外接矩形參數(shù)等表征顆粒形狀的10多項(xiàng)常用數(shù)據(jù) | |
個(gè)數(shù)統(tǒng)計(jì) | 直接得到所觀(guān)測(cè)的顆粒數(shù)量 | |
樣品縮略圖 | 可以將樣品彩色或黑白（可選擇）縮略圖顯示到報(bào)告中 | |
表頭輸入 | 可以將樣品名稱(chēng)、測(cè)試單位、分散介質(zhì)等多項(xiàng)信息輸入到報(bào)告表頭中 | |
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