一、 概述：

CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷機系機電組合型半自動磁粉探傷設(shè)備，由電源控制系統(tǒng)、夾持磁化裝置、磁懸液系統(tǒng)等幾大部分組成，適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的軸、管、棒類零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。

本設(shè)備采用手動、自動兩種運行方式，由可編程控制器（OMRON PLC）集中控制。手動時，可進行每個功能的單步獨立操作；自動時，設(shè)備自動執(zhí)行PLC內(nèi)部程序，工件上料到位夾緊后，按啟動按鈕，可實現(xiàn)工件的噴淋—轉(zhuǎn)動—充磁等一系列動作。手動退磁后松開工件。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組異形結(jié)構(gòu)的線圈，具有良好的磁化效果。復(fù)合磁化在工件上形成旋轉(zhuǎn)磁場，一次性顯示磁跡，具有較高的工作效率。

二、 主要技術(shù)參數(shù)：

2.1、磁化方式：周向、縱向、復(fù)合三種磁化方式；

2.2、周向磁化電流：AC 0-4000A有效值，連續(xù)可調(diào)；

2.3、縱向磁化磁勢：AC 0-18000AT有效值，連續(xù)可調(diào)，

DC 0-18000AT平均值（半波兩倍于平均值），連續(xù)可調(diào)；

2.4、周向退磁電流：AC 4000-0A有效值，連續(xù)可調(diào)；

2.5、縱向交流退磁磁勢：AC 18000-0AT有效值，連續(xù)可調(diào)；

2.6、交流磁化后退磁效果：≤0.3mT；

2.7、電極間距：0-1250mm（電動可調(diào)）；

2.8、暫載率：≥25%；

2.9、夾持方式：氣動夾緊；

2.10、運行方式：手動/自動；

2.11、探傷靈敏度：15/50A1型試片清晰顯示；

2.12、探傷節(jié)拍：約15秒/件(上下料及觀察時間除外，探傷時間和工藝過程可根據(jù)需方實際需要，程序可調(diào)整)；

2.13、電源：三相四線 380V±5%  50Hz  250A；

2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H)

探傷機尺寸：2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)（含噴淋架高度），

2.15、使用環(huán)境：溫度-5℃+40℃，相對濕度≤80%，無腐蝕氣體、粉塵及中高頻干擾；

2.16、重量：約1300Kg。