技術(shù)數(shù)據(jù)：

·外殼約寬 560 mm x 高 1640 mm x 深 620 mm

·腔室容積：約 35 升

·供電電源：230 V / 16 A

·氣體供給：3 個質(zhì)量流量控制器 (MFC)

·真空腔室： 硼硅玻璃材質(zhì)的玻璃罩 ∅ 315 mm x 高 500 mm

·濺射源： 1 個濺射源 2" - 3" + 擋板（針對反應(yīng)性過程，可選配排煙管和進(jìn)氣口）

·基材支架： ∅ 140 mm（可選擇旋轉(zhuǎn)型、基材加熱裝置、基材冷卻裝置）， 可切換為等離子預(yù)處理的電極（清洗、活化、蝕刻）

·控制系統(tǒng)：PC-控制系統(tǒng) (Microsoft Windows XPe) 

·壓力測量裝置： Pirani

·真空泵： 不同規(guī)格，來自不同制造商（根據(jù)需要配備活性炭過濾器）

其他選項： 

·備件套件、壓力計、腐蝕性氣體設(shè)計結(jié)構(gòu)、氣瓶、減壓器、加熱板、溫度顯示器、加熱型腔室、法拉第籠、等離子體聚合配件、測試墨水、氧氣發(fā)生器、慢速通風(fēng)裝置、慢速抽吸裝置、TEM 樣品架法蘭、維護(hù)/服務(wù)、當(dāng)?shù)卣Z言的文件、現(xiàn)場安裝，包括培訓(xùn)。

其它選項功能

·發(fā)生器頻率：    40 kHz：功率 0 - 500 W

·3.56 MHz：功率 0 - 300 W

·直流偏置電源或單極性脈沖

·功率為 300 W 電壓為 600 V DC

·發(fā)生器為 0 - 99% 無級可調(diào)型