污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間:2024-02-02 14:16:14瀏覽次數(shù):205次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線A residual gas system configured for molecular beam epitaxy applications. Measures residual gases and provides for contamination and leak detection in MBE systems.
HALO 201 MBE 分子束外延殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀用于泄漏探測(cè)、趨勢(shì)分析、真空診斷的過(guò)程監(jiān)測(cè)和殘余氣體的精確分析。
該分子束外延特定分析質(zhì)譜儀由兼容性材料組成,并能在分子束外延環(huán)境中長(zhǎng)期使用。
·鉬銅布線增加MBE環(huán)境下系統(tǒng)的壽命
·抗污染離子源護(hù)罩
·雙法拉第/ channelplate電子倍增器
·質(zhì)量數(shù)范圍: 1~300 amu
·掃描速度: 100amu/s
·最小掃描步階:0.01amu
·靈敏度: 0.1 ppm~1ppm
·穩(wěn)定性: 24h以上,峰高變化小于±0.5%
·最小檢測(cè)分壓:2 x 10-13 mbar
·工作壓力:1 x 10-4 mbar
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