英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D使用“渦輪”泵，前級為旋轉(zhuǎn)機械泵，整個抽真空過程為自動控制。真空度可調(diào)整，以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬，以及金靶等不同材料要求，定時器可設(shè)置成不同的濺射時間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶，靶面直徑為54 mm，可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細顆粒的涂層（無需水冷卻）。
濺射時參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁閥。
K575D（雙頭）其它與K575X相同，只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應(yīng)用時，不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
注：K575D技術(shù)規(guī)格與K575X相同，但它有雙頭。K575X具有peltier制冷，對于比較厚的沉積，通常用K575D（雙頭）單元。
英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的主要特點
1、全自動控制
2、Peltier冷卻濺射頭
3、精細鍍層（0.5nm Cr粒子）
4、可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標準配置
5、薄膜沉積（典型為5nm）
6、直徑為165mm腔室
7、可選雙濺射頭
8、可接膜厚測控儀
優(yōu)點：
● 可濺射易氧化金屬精細顆粒，如：鉻（Cr）或銥(Ir)
● 應(yīng)用范圍廣，除了可選濺射常用金屬靶材如：金銀鉑鈀銅錫鋁鎂鐵鈷鎳鉻鈦鉬鎢銥鉭等單質(zhì)純金屬靶材之外，還可選配金鈀合金靶、鉑鈀合金靶、碳靶以及ITO（氧化銦錫）靶等特殊靶材
● 易操作
● 無需水冷卻
● 高分辨率，可復(fù)制涂層
● 適應(yīng)各種樣品
● 重復(fù)膜厚沉積
● 樣品容易裝載和卸載
● 不需要打開真空即可進行順序涂層
● 沉積厚度可預(yù)設(shè)
英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的技術(shù)參數(shù)
1、儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
2、工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
3、安全鐘罩：聚碳酸酯
4、基座：110 mm直徑 x 115mm高
5、重量：42公斤
6、靶：54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標準靶材)
7、樣品臺：50mm直徑，具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)樣品臺
8、操作真空：1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar
9、濺射電流：0-150mA
10、沉積速率：0-20nm/分
11、濺射定時：0-4 分鐘
12、渦輪分子泵：60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)
13、真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
14、電源：230伏/50Hz(包括泵電流為6安培)
