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深圳維爾克斯光電有限公司
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更新時間：2024-02-25 13:14:46瀏覽次數(shù)：208次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線電動晶圓臺與真空 (HV) 兼容，是電子顯微鏡室真空臺的理想選擇。WP-Z-120A Wafer Stage可針對不同的環(huán)境和規(guī)格進行定制。高負載晶圓臺還提供超高真空 (UHV) 和 UHV-RAD 抗輻射版本。OEM晶圓臺更高負載的定制版本可用于高達14 kg的負載，并且提供用于平臺調(diào)平和掃描的傾斜版本。
PRIOR納米壓電Z軸高負載晶圓臺,12英寸大尺寸晶圓臺
毫秒級響應(yīng)時間和高帶寬使WP-Z-120A晶圓定位系統(tǒng)非常適合需要高吞吐量的應(yīng)用。電動晶圓臺設(shè)計用于容納 300毫米（12英寸晶圓）的晶圓，并提供的性能，負載高達8公斤，適用于重型晶圓卡盤。
該平臺使用電容式定位傳感器提供納米位移測量和閉環(huán)反饋。彎曲引導在120 μm閉環(huán)范圍內(nèi)提供無摩擦且可靠的運動，并通過Queensgate的數(shù)字閉環(huán)控制器實現(xiàn)快速響應(yīng)和穩(wěn)定時間。
PRIOR旗下Queensgate公司業(yè)務(wù)開發(fā)經(jīng)理Alison Raby表示“我們很高興向市場推出WP-Z-120A大尺寸晶圓臺。我們希望設(shè)計一款能夠承載高負載但實現(xiàn)市場的快速響應(yīng)和穩(wěn)定時間的納米壓電Z軸晶圓載物臺，晶圓掃描儀的設(shè)計考慮了OEM客戶，并且可以適應(yīng)輕松升級到新的OEM晶圓臺自定義版本。"
WP-Z-120A高負載晶圓臺可針對不同的環(huán)境和規(guī)格進行定制。它與真空 (HV) 兼容，是電子顯微鏡室的理想選擇。還提供超高真空（UHV）和UHV-RAD抗輻射版本。更高負載的真空臺定制版本可用于高達14公斤的負載，并且提供用于平臺調(diào)平和掃描的傾斜版本?？筛鶕?jù)要求提供160 μm的擴展范圍和200 mm晶圓的更小尺寸。
高負載壓電晶圓Z軸平臺技術(shù)規(guī)格：
| 納米晶圓臺參數(shù) | 定值 | | | 單位 |
| 材質(zhì) | | 鋁 | | |
| 拋光 | | 非磁性鎳 | | |
| 尺寸 | | 375 L X 375 W x 30 H | | |
| 平臺尺寸 | | 350 直徑 | | |
| | 最小 | 典型值 |
| |
| 閉環(huán)行程 | | 140 | | μm |
| 校準范圍 | 120 | | | μm |
| 共振頻率 0 kg | | 320 | | Hz |
| 共振頻率 5.2 kg | | 190 | | Hz |
| 共振頻率 8 kg | | 155 | | Hz |
| 線性誤差 | | 0.1 | 0.3 | % |
| 動態(tài)（典型值） | | | | |
| 測試負載 | 0 | 5.2 | 8 | Kg |
| 平臺沉降 1 μm | 9 | 13 | 14 | ms |
| 平臺沉降 30 μm | 16 | 22 | 24 | ms |
| 噪聲 | 1.2 | 1.5 | 1.8 | nm |
| 重復性, 60 μm步進 | | 5.5 | | nm |
| 3 dB伺服環(huán)路帶寬 | 65 | 45 | 40 | Hz |
高負載壓電晶圓Z軸平臺
高負載壓電晶圓Z軸平臺主要應(yīng)用：
-晶圓或掩模檢測應(yīng)用
-電子顯微鏡SEM/TEM應(yīng)用
-干涉測量和計量應(yīng)用
-顯微鏡高精度載物臺應(yīng)用
-材料檢驗應(yīng)用
-鏡面定位應(yīng)用
高負載壓電晶圓Z軸平臺定制解決方案：
-真空(HV)兼容版本，非常適合在電子顯微鏡的真空室中使用
-超高真空 (UHV)和UHV-RAD抗輻射版本，具有低放氣聚酰亞胺布線
-高負載OEM晶圓臺定制版本，可使用高達14公斤
-用于平臺調(diào)平和掃描的傾斜調(diào)制Z軸定制版本
-160 μm的擴展范圍
-200 mm晶圓的裝配/12英寸晶圓的裝配
-可提供用于Prior Scientific載物臺H112高精度載物臺的轉(zhuǎn)接板
高負載壓電晶圓Z軸平臺的NPC-D-6110壓電控制器：
高負載壓電晶圓Z軸平臺可由NPC-D-6110壓電控制器驅(qū)動控制，NPC-D-6110壓電控制器具備20 μm的更新速率，該規(guī)格參數(shù)在市面上具備極大的優(yōu)勢，其超低噪聲的控制模式在高伺服環(huán)路帶寬或高負載使用下依舊可以保證高分辨率運行。帶有加速/減速控制的運動控制算法可減少超調(diào)，可以提供更佳的步進穩(wěn)定時間。該系統(tǒng)提供高達三個出廠設(shè)置，可選擇的調(diào)諧預設(shè)使得控制器使用時，對于步進穩(wěn)定和樣品質(zhì)量進行了優(yōu)化處理。五個額外的自定義預設(shè)可用于自定義調(diào)整。
新的速度控制算法為對焦堆疊或?qū)拱鼑葢?yīng)用提供了超平滑的波形。
高負載壓電晶圓Z軸平臺的操作界面：
模擬命令輸入和位置輸出- 10 – + 10 V或0 – 10 V。數(shù)字命令可通過USB、RS232C或數(shù)字正交/步進和方向命令獲得?？蛇x的高速RS422C數(shù)字接口用于樣品精確控制和位置反饋。
提供了一個DLL接口，便于與客戶的軟件集成。回放自定義編程波形，如光柵掃描或等速剖面的標準功能。可以在自定義點激活單獨的數(shù)字觸發(fā)輸出，以控制外部設(shè)備，例如相機成像等應(yīng)用需求。
高負載壓電晶圓Z軸平臺訂購和配件信息：
| 訂購型號 | 晶圓臺描述 |
| QGWP120A-D1 | 300 mm (12") high speed low profile wafer piezo stage 120 μm Z with NPC-D-6100 digital controller |
| QGWP120A-UHV-D1 | 300 mm (12") high speed low profile wafer piezo stage 120μm Z high vacuum compatible with NPC-D-6100 digital controller |
| 配件信息 | |
| QGWPADAPT1 | H112 to WP120A adapter plate kit |
| QGWP30 | 150, 200 and 300 mm (6, 8 & 12") wafer chuck |
| QGWP30V | 150, 200 & 300 mm (6, 8 & 12") vacuum hold wafer chuck |
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