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VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地沈陽市

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更新時間:2023-06-30 19:37:49瀏覽次數(shù):194次

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產(chǎn)品簡介

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介:VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

產(chǎn)品型號

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-1HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點

1、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

技術(shù)參數(shù)

1、電源電壓:220V  50Hz

2、功率:<1KW(不含真空泵)

3、極限真空度:9.0×10-4Pa

4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)

5、靶槍數(shù)量:1個(可選配其他數(shù)量)

6、靶槍冷卻方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)

9、載樣臺:Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。

10、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

11、工作氣體:Ar等惰性氣體

12、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

產(chǎn)品規(guī)格

1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm

2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm

3、重量:160kg

4、真空室規(guī)格:φ300×300mm

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

1套(可選)

2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套(可選)

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1套

4

分子泵(德國進口)

1臺

5

冷水機

1臺

6

冷卻水管(Ø6mm)

4根

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材

 

 

直流濺射,又稱陰極濺射或二極濺射

 

濺射條件:工作氣壓10pa左右,濺射電壓3000V,靶電流密度0.5mA/cm2,薄膜沉積速率低于0.1mm/min。

工作原理:先讓惰性氣體(通常為Ar氣)產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象產(chǎn)生帶電的離子;帶電離子緊電場加速撞擊靶材表面,使靶材原子被轟擊而飛出來,同時產(chǎn)生二次電子,再次撞擊氣體原子從而形成更多的帶電離子;靶材原子攜帶著足夠的動能到達(dá)被鍍物(襯底)的表面進行沉積。隨著氣壓的變化,濺射法薄膜沉積速率將出現(xiàn)一個極大值,但氣壓很低的條件下,電子的自由程較長,電子在陰極上消失的幾率較大,通過碰撞過程引起氣體分子電離的幾率較低,離子在陽極上濺射的同時發(fā)射出二次電子的幾率又由于氣壓較低而相對較小,這些均導(dǎo)致低氣壓條件下濺射的速率很低。在壓力1Pa時甚至不易維持自持放電!隨著氣壓的升高,電子的平均自由程減小,原子的電離幾率增加,濺射電流增加,濺射速率增加。

適宜濺射靶材種類為不易氧化的輕金屬,如Au,Ag,Pt等

 

射頻濺射是利用射頻放電等離子體中的正離子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術(shù)。

 工作條件:射頻濺射可以在1Pa左右的低壓下進行,濺射電壓1000V,靶電流密度1.0 mA/cm2,薄膜沉積速率0.5mm/min。

工作原理:人們將直流電源換成交流電源。由于交流電源的正負(fù)性發(fā)生周期交替,當(dāng)濺射靶處于正半周時,電子流向靶面,中和其表面積累的正電荷,并且積累電子,使其表面呈現(xiàn)負(fù)偏壓,導(dǎo)致在射頻電壓的負(fù)半周期時吸引正離子轟擊靶材,從而實現(xiàn)濺射。由于離子比電子質(zhì)量大,遷移率小,不像電子那樣很快地向靶表面集中,所以靶表面的點位上升緩慢,由于在靶上會形成負(fù)偏壓,所以射頻濺射裝置也可以濺射導(dǎo)體靶。在射頻濺射裝置中,等離子體中的電子容易在射頻場中吸收能量并在電場內(nèi)振蕩,因此,電子與工作氣體分子碰撞并使之電離產(chǎn)生離子的概率變大,故使得擊穿電壓、放電電壓及工作氣壓顯著降低。

優(yōu)點:1、可在低氣壓下進行,濺射速率高。

2、不僅可濺射金屬靶,也可濺射絕緣靶,可以把導(dǎo)體,半導(dǎo)體,絕緣體中的任意材料薄膜化。

3、必須十分注意接地問題。

適宜濺射的靶材種類為各種類型的固體靶材,金屬,半導(dǎo)體,絕緣體靶材均可濺射,尤為適用于易產(chǎn)生氧化絕緣層的靶材.如Al,Ti,Mg等金屬以及TiQ2,ZnO等氧化物靶材.


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