當前位置：杭州庚雨儀器有限公司>>Agilent渦輪分子泵>>Agilent TwisTorr 804 FS渦輪分子泵

Agilent TwisTorr 804 FS渦輪分子泵

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號Agilent TwisTorr 804 FS

品牌

廠商性質其他

所在地

在線詢價收藏產品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-05-19 09:53:23瀏覽次數：79次

聯(lián)系我時，請告知來自環(huán)保在線

產品分類 品牌分類

  Agilent渦輪分子泵

全部產品列表

  其他品牌

杭州庚雨儀器有限公司

經營模式：其他

商鋪產品：698條

所在地區(qū)：

詢價 給他留言

產品簡介

AgilentTwisTorr804FS高真空渦輪分子泵采用TwisTorr拖動技術和安捷倫懸浮軸承，具有高性能、高可靠性及經濟性

詳細介紹

Agilent TwisTorr 804 FS 高真空渦輪分子泵采用 TwisTorr 拖動技術和安捷倫懸浮軸承，具有高性能、高可靠性及經濟性。TwisTorr 拖動技術對小分子氣體（如氫氣和氦氣）能提供高壓縮比，從而實現(xiàn)大抽氣量和高前級耐壓，進而能使用更經濟實惠、更小型的前級泵。該技術使得轉子能采用緊湊的設計，變得高效節(jié)能，并能保持較低的工作溫度。安捷倫懸浮軸承系統(tǒng)降低了噪音和振動，并能保證穩(wěn)定的軸承工作條件，從而能延長工作壽命，減少系統(tǒng)停機時間，并能確保長時間穩(wěn)定的抽氣性能。TwisTorr 804 FS 泵的軸承和干式潤滑劑設計，使得泵無需泵油和維護，能夠以任意方向安裝。可選擇一體式控制器或機架控制器。

特性：

1.創(chuàng)新的 TwisTorr 技術 — 對小分子氣體的高壓縮比實現(xiàn)了高性能和小系統(tǒng)占用空間。

2.高前級耐壓 — 允許使用更小的前級泵，從而降低了系統(tǒng)成本和尺寸。

3.安捷倫懸浮軸承系統(tǒng) — 低振動、低噪音和更好的軸承工作條件可延長泵的使用壽命，從而實現(xiàn)使用維護成本優(yōu)化，減少系統(tǒng)停機時間，并保證長時間穩(wěn)定的抽氣性能。

4.的軸承和干式潤滑劑 — 免維護、免油，實現(xiàn)任意角度安裝。

5.“三維"泵控制軟件使靈活性、速度和簡便性達到，可在泵的操作條件下達到更好通量和壓縮性能。

典型渦輪泵應用：
安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵，其設計旨在實際應用中達到更高性能。泵的緊湊型設計滿足工業(yè)中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護，并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商，安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持，或定制適合您的需求的系統(tǒng)。

典型渦輪泵應用：

領域	詳細說明	應用
質譜和分析儀器	針對質譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器具有多入口泵組的定制泵低成本、易于使用、高分析性能對于 GC/MS，提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口對于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系統(tǒng) 對于 ICP-MS，提供多種真空系統(tǒng)，包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池對于 TOF 系統(tǒng)，需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備	質譜 GC/MS LC/MS ICP-MS TOF
科研中的真空應用	非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV 粗真空軸承未暴露于 UHV，降低了污染高速和高壓縮可以以任意角度安裝聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體	高能物理融合技術一般 UHV 研究同步光源粒子加速器
工業(yè)真空加工	為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案適用于原始設備制造商和終端用戶的專業(yè)性能適用于具有預真空鎖或大型內聯(lián)連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵	薄膜沉積：玻璃涂層設備（建筑和汽車玻璃，平板顯示器）薄膜太陽能電池生產（光電）光學數據介質（CD、DVD、磁光光盤）磁性存儲介質表面處理光學涂層（眼科、精密光電）膜或箔上的輥式/卷繞涂覆設備加工：生產電視機和顯示器顯像管疏散燈（高速公路照明、投影機） X 射線管和電子設備一般工藝：真空爐/冶金
納米技術儀器	分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統(tǒng) 低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體集成的泵控制器可靈活進行控制，幾乎不生成電磁噪音非常適合為半導體生產創(chuàng)造合適環(huán)境高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體（He、H）符合高速循環(huán)應用的嚴格要求，例如真空裝載鎖通過對多個渦旋泵聯(lián)用一個前級泵，可提高工具的可靠性聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處	電子顯微鏡（SEM、TEM）聚焦離子束系統(tǒng) (FIB) 表面分析半導體制造

性能指標：

抽速：	ISO200K-F	ISO250K-F	CFF10
N₂ He H₂ Ar	720 L/s 660 L/s 485 L/s 690 L/s
*氣體通量 ()**	風冷（空氣溫度 25 °C）	水冷（水溫 15 °C/室溫 25 °C）
N²	4.3 mbar L/s 255 SCCM	6.1 mbar L/s 367 SCCM
He	7.9 mbar L/s 467 SCCM	10.4 mbar L/s 615 SCCM
Ar	1.5 mbar L/s 89 SCCM	3.3 mbar L/s 195 SCCM
*() 前級泵 11.6 m³/h**
壓縮比與前級耐壓關系*
N₂ He H² Ar	> 1E + 11 2E + 08 3E + 06 1E + 11	10 mbar 10 mbar 4 mbar 8.5 mbar
*() 前級耐壓定義為，在水冷模式下，當渦輪泵仍能產生 100 的壓縮比時的壓力**
采用推薦前級泵時的極限真空	< 1 × 10^-10 mbar (< 1 × 10^-10 Torr)
抽氣口法蘭	ISO 200K，ISO 200F，ISO 250K， ISO 250F，CFF 10 英寸
前級管道法蘭	NW25 或 NW40
推薦的前級泵	DS302 IDP10 IDP15
工作位置	任意
操作環(huán)境溫度	+5 °C 至 +35 °C
潤滑油	性脂潤滑
冷卻要求
風冷	空氣溫度由 +5 °C 至 35 °C
水冷	水溫由 +15 °C 至 +25 °C 水流速 100 L/h
噪音壓力級別（全速運行時距離 1 m 處）	43 dB(A)