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ICP-MS干擾測(cè)試標(biāo)液B3 CL-INT-B3

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品類別: 無機(jī)標(biāo)物 EPA CLP項(xiàng)目標(biāo)液干擾測(cè)試標(biāo)液無機(jī)標(biāo)物 ICP-MS多元素混標(biāo) ICP-MS干擾測(cè)試標(biāo)液

詳細(xì)介紹

--- 美國SPEX CLP項(xiàng)目標(biāo)液 ---

ICP-MS干擾測(cè)試標(biāo)液B3

ICP-MS Analytes B3

元素：2mg/L: Sb, As, Ba, Be, Cd, Cr, Co, Cu, Pb, Mn, Hg*, Ni, Se, Ag, Tl, V, Zn
基體：2% HNO3/tr Tartaric Acid/tr HF
體積：125mL
編號(hào)：CL-INT-B3
** CL-INT-B3N (不含Hg汞元素)

注：*汞元素以單標(biāo)液(CLHG2-1AY)形式單獨(dú)供應(yīng)。
**不含汞元素。

用途：Claritas PPT 級(jí)，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）分析用元素標(biāo)液。EPA合約實(shí)驗(yàn)室CLP項(xiàng)目標(biāo)液。
證書：每份標(biāo)液都附有一份內(nèi)容詳細(xì)的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)證書，證書報(bào)告標(biāo)液中多至68種痕量雜質(zhì)元素含量實(shí)際測(cè)量結(jié)果。
溯源：美國NIST SRM (Traceable by NIST SRM)

**應(yīng)用參考 · INSTRUCTION**

每次測(cè)試開始和結(jié)束驗(yàn)證干擾和背景校正因子，另外每20個(gè)樣品必需進(jìn)行檢測(cè)。
標(biāo)液CL-INT-A2，稀釋10倍，為溶液A，標(biāo)液CL-INT-A2稀釋10倍再加標(biāo)液CL-INT-B4稀釋100倍后混合，為溶液AB。溶液A和溶液AB用于見的干擾檢測(cè)。一旦兩種溶液配制好，需連續(xù)分析，從溶液A開始。
標(biāo)液CL-INT-A2，稀釋10倍，為溶液A，標(biāo)液CL-INT-A2稀釋10倍再加標(biāo)液CL-INT-B3稀釋100倍后混合，為溶液AB。溶液A和溶液AB用于見的干擾檢測(cè)。一旦兩種溶液配制好，需連續(xù)分析，從溶液A開始。
CLP ISM 01.2 and ILM 05.2 & 05.3 Standards for ICP-MS
For verification of inter-element and background correction factors at the beginning and the end of each analysis run. In addition, a verification must be done after every 20th sample. Two solutions are required for the most common interference check: Solution A, the interferents alone (CL-INT-A2) and Solution AB, a combination of interferents (CL-INT-A2) and analytes (CL-INT-B3 or CL-INT-B4). Solution A is prepared by diluting CL-INT-A2 10-fold. Solution AB is prepared by diluting CL-INT-A2 10-fold and CL-INT-B3 or CL- INT-B4 100-fold; for example, 10 mL of CL-INT-A2 and 1 mL of CL-INT-B3 or CL-INT-B4 into a 100 mL volumetric flask, brought to volume with a matrix blank. Once prepared, the solutions should be analyzed consecutively, starting with Solution A.

關(guān)鍵詞：質(zhì)譜儀

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