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1200℃四坩堝移動型管

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更新時間：2023-02-28 10:52:21瀏覽次數(shù)：189次

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  雙溫區(qū)管式爐

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品詳情型號：OTF-1200X-II-ZL產(chǎn)品概述：OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內(nèi)部移動的（在真空氣氛保護(hù)環(huán)境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品詳情

型號：OTF-1200X-II-ZL

產(chǎn)品概述：OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內(nèi)部移動的（在真空氣氛保護(hù)環(huán)境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構(gòu)，可將坩堝在爐管內(nèi)推出后再拉回，讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設(shè)備可進(jìn)行物理化學(xué)混合沉積（HPCVD），快速熱蒸發(fā)（RTE）等實驗，特別適合制備多層二維晶體材料。

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開啟式管式爐	雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)分別獨立控制兩個溫區(qū) 加熱區(qū)長度：溫區(qū)1:200mm, 溫區(qū)2:200mm 爐管材料：高純石英爐管尺寸：外徑: 60 ×內(nèi)徑: 54×長: 760 mm 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設(shè)置在800℃時所測，僅供參考）（可點擊圖片查看詳細(xì)資料））工作溫度：1200℃（<1hr) 連續(xù)工作溫度：1100℃ 控溫精度：+/-1℃
真空密封	配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表進(jìn)氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口法蘭密封圈采用水冷卻，使用時需要通入冷卻水，可在本公司選購循環(huán)水冷機真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵)
坩堝移動機構(gòu)（轉(zhuǎn)輪式法蘭）	一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接(圖1) 通過步進(jìn)電機驅(qū)動使坩堝移動，并和熱電偶和坩堝一起移動，實時監(jiān)測樣品的溫度進(jìn)氣端法蘭轉(zhuǎn)輪式法蘭（圖2）可同時在轉(zhuǎn)輪系統(tǒng)中放入4個坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中（可在真空狀態(tài)或氣氛保護(hù)狀態(tài)進(jìn)行運作）
坩堝移動控制	通過一步進(jìn)電機控制坩堝移動的速度和位置可控制坩堝最小移動位移為1mm 坩堝移動距離為200mm
防腐型數(shù)顯真空計	配有一數(shù)顯防腐型真空計當(dāng)氣壓在10mbar以上時，不需因測量氣體種類不同而進(jìn)行系數(shù)轉(zhuǎn)換對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復(fù)性因為傳感器上鍍有涂層，所以具有較好的抗腐蝕性測量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr
混氣系統(tǒng)	此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng) 輸出功率：18W 工作溫度：5-45℃ 氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質(zhì)量流量計量程： 1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)
產(chǎn)品尺寸	2400L×600W×1300mm H
國家
質(zhì)保	一年質(zhì)保期，終生維護(hù)（不包含爐管，密封圈和加熱元件）
質(zhì)量認(rèn)證	CE認(rèn)證所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認(rèn)證若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
使用注意事項	爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全當(dāng)爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài) 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊石英管的長時間使用溫度＜1100℃ 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
應(yīng)用注意事項	此款管式爐具有多種用途熱蒸發(fā)：把蒸發(fā)料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發(fā)溫度 HPCVD：和熱蒸發(fā)相似，可通入反應(yīng)氣體與蒸發(fā)的物料反應(yīng)后再沉積可用于制作多層二維晶體