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光微波紫外線除臭設(shè)備

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光微波紫外線除臭設(shè)備原理

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光微波紫外線除臭設(shè)備

光微波紫外線除臭設(shè)備原理

應(yīng)用于工業(yè)的紫外線波長154nm-254nm，波長越短能量越大，254nm以下波長的紫外線能夠裂解O2，產(chǎn)生O3，大于254nm波長基本不能裂解O2，由于154nm-185nm的波長相對(duì)比較短所以“殺傷"的空間范圍也較小。而185nm-254nm盡管波長較長但是殺傷空間范圍相對(duì)較大。

光微波紫外線除臭設(shè)備

光解氧化除臭設(shè)備，采用NBL標(biāo)準(zhǔn)紫外線燈，產(chǎn)生紫外線，其中154nm-185nm波長在系列光譜中使占比例14%，紫外線劑量大于45mw/cm2，光子能量大于1000kJ/mol，是當(dāng)前工業(yè)UV/O3紫外燈中劑量和能量大的紫外線，氧化鍵能小于380kJ/mol（常見化學(xué)鍵的鍵能和鍵長見下表）的污染物，紫外線光解氧氣產(chǎn)生臭氧，臭氧濃度按照1.8Kg/h配置，設(shè)計(jì)臭氧濃度200mg/m3，臭氧能氧化金屬性較強(qiáng)的污染物，臭氧量可根據(jù)污染物的濃度以及后續(xù)反應(yīng)時(shí)間設(shè)定。

廢氣的光解氧化機(jī)理包括兩個(gè)過程：一是在產(chǎn)生離子群體的過程中，數(shù)量的有害氣體分子受作用，本身分解成單質(zhì)或轉(zhuǎn)化為物質(zhì)。二是含有大量粒子和離子群體，與大分子氣體（如苯、甲苯等）作用，打開了其分子化學(xué)鍵，轉(zhuǎn)化為小分子物質(zhì)。氧離子具有很強(qiáng)的氧化性，它能的氧化分解不受負(fù)離子作用控制的物。和廢氣反應(yīng)后多余的氧離子（正），能與氧離子（負(fù)）很快結(jié)合成中性氧，因而多地對(duì)設(shè)備及環(huán)境造成不利影響。三大量活性氧在紫外線的作用下能加速氧化速度，氧化效率。

在波長范圍154nm-184.9nm（1200KJ/mol-600KJ/mol）紫外線的作用下，一方面空氣中的氧被裂解，然后組合產(chǎn)生臭氧；另一方面將污染物化學(xué)鍵斷裂，使之形成游離態(tài)的原子或基團(tuán)；同時(shí)產(chǎn)生的臭氧參與到反應(yīng)過程中，使廢氣終被裂解，氧化成簡單的穩(wěn)定的化合物CO2、H2O、N2，一系列過程的可能性決定于：

（1）污染物分子能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵能是否比所提供的UV光子能力低？

（2）裂解反應(yīng)的時(shí)間是否1S，氧化反應(yīng)的時(shí)間是否達(dá)到5-8S；

（3）UV光解的環(huán)境是否穩(wěn)定、需要反應(yīng)溫度＜70°，粉塵量＜200mg/m3,

相對(duì)溫度＜200%。

（4）污染物中某些化學(xué)元素的含量是否過高（如CL、F）；

常見化學(xué)鍵的鍵能和鍵長

化學(xué)鍵	鍵長	鍵能KJ/mol
O-O	148	146
N-O	146	230
S-S	207	268
C-S	182	272
C-O	143	326
C-C	154	332
S-H	135	339
N-H	101	389
C-H	109	414
H-CL	127	431
O-H	98	464
O=O	120	498
C=S		577
N=O	114	607
C=C	134	611
C=O	120	728