AA-7050 原子吸收分光光度計(jì)
. 8燈座自動(dòng)轉(zhuǎn)塔
. 燃燒頭自動(dòng)升降，自動(dòng)調(diào)整火焰高度
. 光控升溫，很大升溫速率3000℃/s
. 石墨爐可視系統(tǒng)，大大簡化了石墨爐方法開發(fā)難度
. 石墨爐節(jié)氣模式
. 石墨管溫度校正
. 石墨爐雙內(nèi)氣路，在保護(hù)氣外再增加一路輔助氣，以幫 助樣品灰化，得到更好的結(jié)果
. 智能變頻，軟件可以智能識(shí)別電源頻率，并自動(dòng)匹配到 該頻率工作
應(yīng)用領(lǐng)域
AA-7050 系列原子吸收分光光度計(jì)可廣泛應(yīng)用于冶金、石化、地質(zhì)、醫(yī)學(xué)、環(huán)保、科研、農(nóng)業(yè)（土肥）、疾控、食品、材料科學(xué)、商檢等領(lǐng)域。目前能分析的元素多達(dá) 70 余種，在微量和痕量的元素分析中有很重要的應(yīng)用。
主要特點(diǎn)
的光學(xué)系統(tǒng)
? 光學(xué)系統(tǒng)懸浮設(shè)計(jì)，震動(dòng)、環(huán)境溫度變化不影響儀器穩(wěn)定性。
? 國內(nèi)采用1800條/mm衍射光柵，能量充足，分辨率高。
? 單光束短光程光學(xué)系統(tǒng)，對砷、硒等元素亦有充足能量取得很低的檢出限。
? 精心設(shè)計(jì)的氘燈扣背景技術(shù)和自吸收全波段扣背景技術(shù)，校正結(jié)果更準(zhǔn)確。
的集成化設(shè)計(jì)
? 精心的一體設(shè)計(jì)，將火焰原子化器、石墨爐以及石墨爐電源全部安裝在
一個(gè)主機(jī)內(nèi)，實(shí)現(xiàn)儀器小型化。
? 優(yōu)化的電源技術(shù)延長燈的使用壽命。
自動(dòng)快速切換
? 便捷的切換式工作臺(tái)，二秒實(shí)現(xiàn)火焰/石墨爐自動(dòng)快速切換。
? 光路無需再調(diào)整。
可靠的安全保護(hù)系統(tǒng)
? 軟件自動(dòng)控制整機(jī)所有參數(shù)條件，具備氣路自動(dòng)保護(hù)，實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力對乙炔泄漏、
空氣欠壓、異常滅火等情況具有報(bào)警和斷電、斷氣各種保護(hù)功能，具備液封水位自
動(dòng)監(jiān)控，笑氣保護(hù)，石墨爐過熱保護(hù)，冷卻水流量監(jiān)控等安全連鎖功能。
高度自動(dòng)化的數(shù)據(jù)處理工作站
? 友好的操作界面
基于Windows XP操作平臺(tái)，多語言支持，如英文、韓文等，能夠快速便捷地得出分析報(bào)告。
? 儀器連接采用網(wǎng)口通訊方式，可遠(yuǎn)程調(diào)入主機(jī)數(shù)據(jù)
? 強(qiáng)大的樣品分析功能及容錯(cuò)處理，靈活修改曲線擬合方程
? 報(bào)告打印功能
靈活的報(bào)告打印功能，根據(jù)用戶設(shè)置選擇不同的打印報(bào)告。
? 數(shù)據(jù)管理功能
實(shí)現(xiàn)對歷史管理備份功能以及相關(guān)的后續(xù)處理，具有訪問控制、權(quán)限分配、審計(jì)追蹤、電子簽名和備份恢復(fù)等功能。
? QA/QC控制功能
系統(tǒng)自動(dòng)判斷分析結(jié)果是否適當(dāng)，如果超出范圍則系統(tǒng)自動(dòng)按照設(shè)置需求重新測量。關(guān)于本系統(tǒng)的QA/QC
功能主要包括：標(biāo)準(zhǔn)偏差（SD）檢測、相對標(biāo)準(zhǔn)偏差（RSD）檢測、相關(guān)系數(shù)檢測、QC檢測、基線漂移（靈敏度修正）檢測、樣品上限檢測。
? 儀器控制功能
包括元素?zé)糇詣?dòng)選擇、波長自動(dòng)掃描、狹縫自動(dòng)切換、燈電流自動(dòng)設(shè)定等。
? 狀態(tài)監(jiān)測功能
實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)監(jiān)測儀器各部件工作狀態(tài)。火焰法：
監(jiān)測燃燒頭類型（空氣乙炔或笑氣乙炔燃燒頭），監(jiān)測水封液位，監(jiān)測燃?xì)?、助燃?xì)忾_關(guān)及壓力，監(jiān)測燃?xì)饬髁?，乙炔漏氣?bào)警等。石墨爐法：過電流保護(hù)，監(jiān)測水溫、水流量，監(jiān)測保護(hù)氣壓力等。
? 點(diǎn)燈時(shí)間管理功能
自動(dòng)記錄元素?zé)羰褂脮r(shí)間。
? 石墨爐使用次數(shù)監(jiān)控
技術(shù)指標(biāo)
? 光學(xué)系統(tǒng)
波長范圍：（190～900）nm 光譜帶寬：（0.1、0.2、0.4、1.0、2.0）nm五檔自動(dòng)切換
單色儀：C-T光柵單色儀 波長準(zhǔn)確度： ±0.1nm
波長重復(fù)性： ≤0.05nm 光柵刻線：1800條/mm
閃耀波長：250nm 基線穩(wěn)定性：≤0.003A/30min(動(dòng)態(tài))
分辨率：優(yōu)于0.1nm ≤0.002A/30min(靜態(tài))
? 火焰分析
Cu特征濃度：≤0.02 µg/mL/1% 檢出限：≤0.003 µg/mL
精 密度RSD：≤0.45% 燃燒頭：可配100mm全鈦燃燒頭或50mm不銹鋼燃燒頭
位置調(diào)節(jié)：高度、角度調(diào)節(jié)，一分鐘內(nèi)完成火焰/氫化物換裝
霧化器：標(biāo)配玻璃霧化器和全鈦金屬霧化器；全鈦金屬霧化器適用于含腐蝕性HF樣品的分析
? 石墨爐分析
Cd特征量：0.3×10-12g 檢出限：0.2×10-12g
溫控范圍：室溫～3000℃ 精 密度RSD：≤1.8%
控溫程序：很大20階升溫程序，階梯、斜坡、 光控升溫速率：≥3000℃/秒
保持三種升溫方式 功率升溫速率：≥2000℃/秒
升溫模式：功率升溫和光控快速升溫
控溫方式：室溫～1000℃采用功率控溫，1000℃～3000℃
采用光控升溫，控溫精度≤1%，溫度重現(xiàn)性≤0.5%
? 背景校正
火焰、石墨爐均可實(shí)現(xiàn)背景校正。
校正方式：氘燈、自吸背景校正（可選）。
校正能力：在背景吸收值接近于1.0Abs時(shí)，儀器具有60倍以上的背景校正能力。
? 數(shù)據(jù)處理
測量方式：火焰吸收法，火焰發(fā)射法，石墨爐法，氫化物法。
分析方法：線性方程、非線性方程、標(biāo)準(zhǔn)加入法。
打印輸出：校準(zhǔn)曲線、信號圖譜、儀器條件、分析參數(shù)和分析結(jié)果等均可自動(dòng)存儲(chǔ)和打印。
? 石墨爐電源內(nèi)置的一體主機(jī)
尺寸：890(長)×570(寬)×490(高)mm，125kg。
電源：～220V 50Hz 單相供電，主機(jī)500W，石墨爐5kW。
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