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更新時(shí)間:2022-10-07 12:04:01瀏覽次數(shù):266次
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超高純氣體純化技術(shù)是有色金屬研究總院十三五重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)化方向
氣體類型 | H2 | O2/Ar | N2 | CH4 | CO | CO2 | H2O | 單位 |
原料氣 | 0.074 | <0.01 | 0.248 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | 未測(cè)試 | ppm |
純化后 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.033 | ppm |
氣體種類 | 產(chǎn)品用途 | 應(yīng)用領(lǐng)域 |
He | 稀釋氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中光刻、干刻、化學(xué)氣相沉積工藝中混合氣 |
Ar | 等離子體氣體、載氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體,直讀光譜儀載氣 |
N2 | 稀釋氣、檢漏氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中稀釋氧化工藝、氣體濃度調(diào)節(jié)、檢漏氣體 |
H2 | 還原氣、反應(yīng)氣純化 | IC、LED 等制造業(yè)中外延工藝和擴(kuò)散工藝氣體 |
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