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智能勻膠機(jī)

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更新時(shí)間：2024-07-11 22:40:09瀏覽次數(shù)：569次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

控溫型智能程控勻膠機(jī)機(jī)身結(jié)構(gòu)：整機(jī)為不銹鋼設(shè)計(jì)，耐酸堿，抗沖擊，抗腐蝕，面板按鍵為不銹鋼防水設(shè)計(jì)，使整個(gè)機(jī)身堅(jiān)固耐用，清洗方便?？刂啤?/p>

詳細(xì)介紹

　　控溫型智能程控勻膠機(jī)機(jī)身結(jié)構(gòu)：整機(jī)為不銹鋼設(shè)計(jì)，耐酸堿，抗沖擊，抗腐蝕，面板按鍵為不銹鋼防水設(shè)計(jì)，使整個(gè)機(jī)身堅(jiān)固耐用，清洗方便?？刂骑@示：設(shè)備配置 3.5 英寸全彩觸摸屏，中文操作界面，操作簡(jiǎn)單、快捷，勻膠模式：用戶(hù)可通過(guò)觸摸屏對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行設(shè)置存儲(chǔ)，不同參數(shù)可隨意調(diào)出，系統(tǒng)支持多工藝組存儲(chǔ)，多段速運(yùn)行。

　　控溫型智能程控勻膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1.帶進(jìn)膠保護(hù)與報(bào)警;

　　2.旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換;

　　3.帶速度上升曲線(xiàn)實(shí)時(shí)顯示;

　　4.吸附不足報(bào)警與互鎖;

　　5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕;

　　6.腔室?guī)С閺U氣功能;

　　7.配方帶掉電保護(hù)功能;

　　8.加熱溫度：室溫–200℃;

　　控溫型智能程控勻膠機(jī)技術(shù)參數(shù)：

　　1)基片尺寸：5-200mm

　　2)速度范圍：1-12000RPM

　　3)轉(zhuǎn)速精度：1RPM

　　4)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±0.1%

　　5)加速度范圍：1-10000RPM/S

　　6)旋轉(zhuǎn)方向：正反轉(zhuǎn)可切換

　　7)涂膠均勻性：±1%

　　8)溫控范圍：室溫-200℃

　　9)人機(jī)界面：8寸觸摸屏

　　10)參數(shù)設(shè)置：無(wú)限組數(shù)據(jù)，每組15段轉(zhuǎn)速(標(biāo)配)或無(wú)數(shù)段轉(zhuǎn)速(選配)

　　11)每段時(shí)間：0-10000秒

　　12)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)：無(wú)限組數(shù)據(jù)

　　13)通信接口：USB(標(biāo)配)/RS232(選配)/RS485(選配)/RJ45(選配)

　　14)觸控筆：BAMBOO電阻筆(標(biāo)配)

　　15)真空泵：AP-550V無(wú)油泵/FY油泵

　　16)勻膠機(jī)交流供電口：AC100-250V

　　17)真空泵交流供電口：AC220V(標(biāo)配) AC110V(選配)

　　18)勻膠機(jī)功率：650W

　　19)真空泵功率：350W

　　20)真空泵抽速：≥60L/MIN

　　21)勻膠機(jī)體積：340mm(W)X500mm(D)X250mm(H)

　　22)勻膠機(jī)重量：18KG

　　23)泵重量：9KG

　　24)使用環(huán)境溫度：0-40℃

　　25)相對(duì)濕度：< 85%

　　26)放置于桌面，可通過(guò)自帶水平儀調(diào)節(jié)機(jī)器水平

　　勻膠機(jī)旋涂?jī)x工作原理

　　勻膠過(guò)程介紹一個(gè)典型的勻膠過(guò)程包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。

　　滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動(dòng)態(tài)滴膠。

　　靜態(tài)滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，進(jìn)而保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。

　　動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠，“動(dòng)態(tài)"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開(kāi)，減少光刻膠的浪費(fèi)，采用動(dòng)態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤(rùn)濕(鋪展覆蓋)整個(gè)基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤(rùn)濕性不好的情況下，動(dòng)態(tài)滴膠尤其適用，不會(huì)產(chǎn)生針孔。

　　滴膠之后，下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚，這個(gè)階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分，轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。快速旋轉(zhuǎn)的時(shí)間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時(shí)間往往能決定最終膠膜的厚度。

　　一般來(lái)說(shuō)，勻膠轉(zhuǎn)速快，時(shí)間長(zhǎng)，膜厚就薄。影響勻膠過(guò)程的可變因素很多，這些因素在勻膠時(shí)往往相互抵銷(xiāo)并趨于平衡。所以更好給予勻膠過(guò)程以足夠的時(shí)間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡。

　　勻膠工藝中重要的一個(gè)因素就是可重復(fù)性。微細(xì)的工藝參數(shù)變化會(huì)帶來(lái)薄膜特性巨大的差異，下面對(duì)一些可變的因素進(jìn)行分析：

　　旋轉(zhuǎn)速度:

　　勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過(guò)程中重要的因素?；霓D(zhuǎn)速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力，

　　而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。

　　膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來(lái)越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上，膠膜厚度不會(huì)隨勻膠時(shí)間延長(zhǎng)而變薄。