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美國Nanovea 三維表面形貌儀 HS1000P

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更新時(shí)間：2023-06-16 12:49:35瀏覽次數(shù)：236次

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產(chǎn)品簡介

三維表面形貌儀HS1000PHS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀，高掃描速度可達(dá)1m/s,采用的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測試，具有測量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場使用

詳細(xì)介紹

三維表面形貌儀HS1000P

HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀，高掃描速度可達(dá)1m/s,采用的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測試，具有測量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場使用。
產(chǎn)品特性
采用白光共聚焦色差技術(shù)，可獲得納米級(jí)的分辨率
測量具有非破壞性，測量速度快，度高
測量范圍廣，可測透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；
尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面
不受樣品反射率的影響
不受環(huán)境光的影響
測量簡單，樣品無需特殊處理

Z方向,測量范圍大：為27mm

主要技術(shù)參數(shù)
掃描范圍：400mm×600mm(大可選600mm*600mm)
掃描步長：5nm
掃描速度：1m/s
Z方向測量范圍：27mm
方向測量分辨率：2nm
產(chǎn)品應(yīng)用
MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和*材料的研發(fā)

主要用于

--生產(chǎn)現(xiàn)場三維形貌測試的理想選擇

--高速三維表面形貌檢測

關(guān)鍵詞：電池