污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市科時達電子科技有限公司
深圳市科時達電子科技有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號200 RIE
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
聯(lián)系方式：林經(jīng)理查看聯(lián)系方式
更新時間：2023-06-16 18:22:47瀏覽次數(shù)：137次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線德國Sentech離子刻蝕與沉積系統(tǒng)200RIECost-effectivenessRIEplasmaetcherEtchlab200combinesparallelplateplasmasourcedesignwithdirectload.可升級性：根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道
德國Sentech 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 200 RIE
Cost-effectiveness
RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.
可升級性：根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道。
成本效益：RIE等離子體蝕刻機Etchlab 200將平行板等離子體源設(shè)計與直接負載相結(jié)合。
SENTECH控制軟件：用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。
Etchlab 200 RIE 等離子體蝕刻機是一種將RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點與直接負載的低成本設(shè)計相結(jié)合的直接負載等離子體蝕刻機系列。Etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電極或載體上。Etchlab 200的設(shè)計特點是靈活性、模塊化和占用空間小。大型診斷窗口位于頂部電極和反應(yīng)器可以很容易地容納森泰克激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢圓度計端口可用于使用森泰克原位橢圓
度計端口可用于使用森泰克原位橢圓度計進行過程監(jiān)測。
Etchlab 200可配置用于處理與晶圓片直接加載兼容的材料，包括但不限于硅和硅化合物、復合半導體、介質(zhì)和金屬。
Etchlab 200由*的森泰克控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
