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斯派克直讀光譜儀SPECTRO LAB M11華普通用

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)要描述： SPECTROLAB M11新型金屬分析儀大大提高了分析性能，增強(qiáng)了靈活性，操作更為簡(jiǎn)便。根據(jù)用戶(hù)要戶(hù)要求量身定制，十種標(biāo)準(zhǔn)基體：鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅，可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀、釕組合配置。SPECTROLAB光學(xué)系統(tǒng)集合了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)。適用于各種分析要求，可廣泛應(yīng)用于金屬冶煉、金屬加工與回收等行業(yè)。

詳細(xì)介紹

UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)：

SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測(cè)器的優(yōu)勢(shì)：光電倍增管和CCD檢測(cè)器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅(jiān)固，同時(shí)減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測(cè)量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氬氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過(guò)率。光室內(nèi)的氬氣由分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氬氣的高純度。
UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)是純凈的，同時(shí)具有杰出的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率，運(yùn)行成本很低。
的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與UV-PLUS概念相結(jié)合，M11能夠同時(shí)以高達(dá)9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級(jí)光譜圖。這一核心技術(shù)奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基礎(chǔ)。

等離子發(fā)生器光源：
*新一代等離子發(fā)生器是至今*堅(jiān)固的激發(fā)光源。超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字信號(hào)發(fā)生配合全數(shù)字能量輸出，確保激發(fā)區(qū)等離子體能量超高分辨率和高保真輸出。在標(biāo)準(zhǔn)分析應(yīng)用中18秒內(nèi)可以獲得分析數(shù)據(jù)，提高了樣品輸出量和過(guò)程控制效率。
火花臺(tái)：
M11的火花臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)?；鸹ㄅ_(tái)內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小，優(yōu)化氬氣流
向設(shè)計(jì)使得氬氣消耗更低，同時(shí)有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級(jí)過(guò)濾系統(tǒng)排出?；鸹ㄅ_(tái)工作維護(hù)量極低。壓桿可以左右移動(dòng)，接駁安全電路?？梢钥焖俑鼡Q樣品。
適用分析大尺寸異型樣品。特殊設(shè)計(jì)的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品專(zhuān)用分析程序提高了分析精度和準(zhǔn)確性。
分析測(cè)試：

M11的精致設(shè)計(jì)使用日常維護(hù)和校工作量降到，儀器操作變得非常簡(jiǎn)單。日常分析按一個(gè)鍵就可以完成。配合自動(dòng)制樣設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)大樣品量輸出。集成于Spark Analyzer Vision 軟件包的硬件診斷系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)控和存檔儀器的運(yùn)行狀態(tài)。對(duì)于儀器參數(shù)設(shè)置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號(hào)判定等功能，軟件設(shè)計(jì)了簡(jiǎn)單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫(kù)格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎(chǔ)。
基于用戶(hù)的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。
CCD光學(xué)系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學(xué)系統(tǒng)*多可設(shè)置108個(gè)高性能光電倍增管。每個(gè)光電管通道都有是一個(gè)微積分器，具有TRS（時(shí)間分解光譜技術(shù)）分析痕量元素和SSE（單火花評(píng)估技術(shù)）分析元素相態(tài)。事實(shí)上，所有分析要求都可以在M11中*優(yōu)無(wú)折衷地實(shí)現(xiàn)。
配備*現(xiàn)代光譜技術(shù)和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLABM11設(shè)計(jì)應(yīng)用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過(guò)程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號(hào)判定，材料研究和開(kāi)發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應(yīng)用。

關(guān)鍵詞：制樣設(shè)備

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