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桌上型X射線熒光元素分析儀

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產(chǎn)品型號EA6000VX

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更新時間:2023-02-23 07:21:01瀏覽次數(shù):203次

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商鋪產(chǎn)品:93條

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產(chǎn)品簡介

1.高速掃描測量通過結(jié)合大幅提高的微小區(qū)域X射線熒光分析靈敏度和高速電動平臺,可快速獲得二維掃描圖像

詳細介紹

  • 1. 高速掃描測量
    通過結(jié)合大幅提高的微小區(qū)域X射線熒光分析靈敏度和高速電動平臺,可快速獲得二維掃描圖像。特別是強化對線路板中鉛的掃描,配備鉛掃描專用濾波器。讓1,000ppm以下無鉛焊錫中的鉛掃描變得簡單可行。
    TECHMAX_CN_PRODUCTS_HITACHI_EA6000VX_02

    2. 寬視野高清晰度光學系
    可獲得250mm x 200mm的20μm以下高清晰度的光學影像。該光學影像可直接精確測量位置,讓操作性得到飛躍般的改善。此外,該光學影像通過高速掃描獲得的掃描圖像進行重迭,可在大范圍內(nèi)進行高精度分析。
    TECHMAX_CN_PRODUCTS_HITACHI_EA6000VX_03

    3. 微小區(qū)域中微量金屬的高速測量
    實現(xiàn)高密度微小X射線束及配備高計數(shù)率檢測器,加上X射線瑩光檢測效率的設計,實現(xiàn)高靈敏度化。讓微小區(qū)域中微量金屬或薄膜都可在短時間內(nèi)測量。即使是1mm x 1mm左右的微小區(qū)域皆以100秒左右的速度測量其中的有害物質(zhì)。

    4. 無需液氮的高計數(shù)率檢測器
    作為標準配置本公司的無需液氮的高計數(shù)率檢測器,省去繁瑣的液氮補給程序。僅需數(shù)分鐘的開機時間,同時電子冷卻的規(guī)格具備優(yōu)異的可信性。運用的技術(shù)可以減少在液氮制造、搬運時產(chǎn)生的二氧化碳,以及提高測量速度后節(jié)省下的電力等,是一款考慮到環(huán)保問題的*儀器。

    5. 微小區(qū)域的鍍層厚度測量
    可在十秒左右的時間完成對0.2mm x 0.2mm面積中Au/Ni/Cu(金/鎳/銅)等薄膜多鍍層的鍍層厚度測量。此外,也可對無鉛焊錫鍍層或化學鎳鍍層中含有的微量鉛進行分析。
  • 項目 描述 內(nèi)容
    X射線發(fā)生部 照射方式
    電壓
    電流
    準直器
    上部垂直照射方式
    50kV,多段電壓切換
    4-1000μA,可做自動調(diào)整設定
    4個,Φ0.2mm、Φ0.5mm、Φ1.2mm、Φ3mm (自動切換)
    檢測器 形式
    冷卻方式
    Vortex硅半導體多陰極偵測器
    電子冷卻(不需要液態(tài)氮,也非冷凍機冷卻)
    一次濾波器 五種濾波器,6種模式可自動切換
    樣品觀察 CCD監(jiān)視器
    觀察倍率
    照明

    同軸觀察系
     
    廣域觀察系
    高分辨率CCD彩色鏡頭 雙系統(tǒng)
    多倍數(shù)自動切換
    LED燈,無影燈設計影像無陰影
    視野:6×4mm
    分辨率:20um
    WD:5mm、15mm、25mm電動
    視野:250×200mm
    分辨率:20um以下
    自動桌面功能  測量位置
    設定測量位置
    確認測量位置
    再測量功能
    在畫面上利用鼠標完成X-Y-Z的坐標輸入
    原點的坐標和畫像保存以及位置偏差角度的修正
    圖表表示測量位置
    通過和測量位置的連動,可以進行再測量
    樣品臺 250(W)x200(D)mm
    移動量 580(W)x450(D)x150(H)mm
    樣品厚度 150mm
    載重量 5kg
    電源容量,接地 AC 100V±10% 15A 2系統(tǒng) 第3種接地
  • ? RoHS/WEEE
    (1)滿足歐盟RoHS指令,以及各國針對電子電機產(chǎn)品中有有害物質(zhì)含量的快速檢測分析,例如Cd、Pb、Hg、Cr、Br等含量的快速分析。
    (2)針對目前IEC指令中之無鹵素含量要求標準,利用XRF可建立快速、非破壞的檢測方法,滿足廠商簡易的需求。

    ? 合金分析
    (1)金屬材料質(zhì)量控管 :合金中主成份的快速分析
    (2)合金成份的鑒定 : 有效分辨材質(zhì)相近合金種類,如:304/321。
    (3)貴金屬的分析鑒定 : 貴金屬金、鈀、鉑、銀等含量分析。
    (4)金屬回收與分類 : 依金屬成份含量做分類
    (5)回收汽車催化劑中,金、鉑、銠的成份分析

    ? 鍍層厚度分析
    (1)分析電子部品電鍍層的厚度
    (2)各類五金電鍍件的鍍層厚度管控分析
    (3)各鍍層的成分比例分析

    ? 映圖掃描分析(Mapping)
    (1)可進行PCB插件之后的直接分析,不需要拆解,100mmX100mm尺寸大小只要30分鐘即可完成各項元素成份分布情況。
    (2)直接分析各種組成元素的分部位置及濃度分布
    (3)結(jié)合樣品影像及元素分布,標定元素位置。

    ? 太陽能應用
    (1)CGIS太陽能厚度分布檢測
    (2)多點位置成份材質(zhì)鑒定

    ? 無鹵素應用
    (1)針對IEC指令中之無鹵素含量要求標準,利用XRF建立快速、非破壞的檢測方法,滿足客戶簡易的需求。
    (2)快速分析無鹵素成分分析
    (3)無鹵成分分布,或多點材料同時檢測。
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