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IKS-OPT2700電子束蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

設(shè)備用途：大面積電子槍蒸發(fā)光電膜、光學(xué)膜和防指紋膜

詳細(xì)介紹

　　設(shè)備用途：大面積電子槍蒸發(fā)光電膜、光學(xué)膜和防指紋膜。

　　愛(ài)科斯的IKS-OPT2700蒸發(fā)鍍膜機(jī)為實(shí)現(xiàn)大量快速生產(chǎn)大面積光學(xué)膜鍍膜和單層/多層表面改性膜而設(shè)計(jì)，本機(jī)為立式單腔體鍍膜機(jī)，是一種基于電子槍蒸發(fā)的多層光學(xué)薄膜鍍膜系統(tǒng)。本設(shè)備的主要產(chǎn)品蒸發(fā)沉積多層光學(xué)介質(zhì)膜和防指紋膜等，例如，可見(jiàn)光彩色膜、鋁反射膜、AF防指紋膜、低熔點(diǎn)有機(jī)物膜、可見(jiàn)光分光膜、可見(jiàn)光抗反射膜等，也可以為特定的簡(jiǎn)單光學(xué)特性膜系進(jìn)行調(diào)試生產(chǎn)。

　　設(shè)備特點(diǎn)

　　1. 產(chǎn)品設(shè)計(jì)，由愛(ài)科斯技術(shù)與產(chǎn)品性能的無(wú)縫對(duì)接整合，創(chuàng)造可靠、穩(wěn) 定、安全、智能化鍍膜系統(tǒng)!

　　2. 真空獲得，重新優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空獲得系統(tǒng)，滿足快捷平穩(wěn)真空環(huán)境!

　　3. 蒸發(fā)源和離子源，合理的布局和高品質(zhì)的加工技術(shù)，調(diào)試技術(shù)，實(shí)現(xiàn)工藝進(jìn)程自動(dòng)調(diào)節(jié)，電子束創(chuàng)新結(jié)構(gòu)與精確速率保障材料沉積更精確、穩(wěn)定!

　　4.自動(dòng)運(yùn)行控制系統(tǒng)，全新開(kāi)發(fā)精確穩(wěn)定系統(tǒng)!設(shè)置簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)便!

　　設(shè)備簡(jiǎn)述

　　IKS-OPT2700是專為大面積光學(xué)薄膜鍍膜而設(shè)計(jì)的電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)。鍍膜機(jī)系統(tǒng)由真空室、真空泵、真空檢測(cè)與控制、襯底加熱系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、離子源輔助沉積系統(tǒng)、電阻蒸發(fā)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、工作氣體體積流量控制系統(tǒng)、工件旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、PLC控制的自動(dòng)鍍膜等組成。

　　蒸發(fā)材料常用稀有金屬，如氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、、二氧化硅、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。銅、鉬、硅、鍺等金屬是反射器光學(xué)材料中常用的材料。

　　可涂裝可見(jiàn)光彩色膜、鋁反射膜、AF指紋膜、低熔點(diǎn)有機(jī)膜、可見(jiàn)光分光膜、可見(jiàn)光防反射膜等

　　設(shè)備參數(shù)

爐體尺寸	Ф2700×H1670	工件架	φ2650*H420mm
真空度	極限真空:6×10^-4Pa(24小時(shí)空載，不加熱)	重量	8000kg,地板承重﹥1000kg/m2
漏率	＜4×10^-3Pa×L/S(氦撿漏)	溫度	室溫-250℃，溫度均勻性±5%
工作真空	6*10-3Pa（自動(dòng)工藝啟動(dòng)）	供電	三相電, 380V，50Hz，60-100KW
低真空	10 分鐘＜10Pa	水冷	腔體流量大于4000l/h,泵組流量大于1800l/h 冷凍機(jī)流量大于1600l/h
高真空	6 分鐘＜8×10^-3Pa	溫水	蒸發(fā)源1800l/h，35-60℃
真空測(cè)量	全程監(jiān)控，實(shí)時(shí)取點(diǎn)	占地	L6×w5.5×H3.5m
應(yīng)用	眼鏡、反光鏡、手機(jī)背板、防護(hù)罩、光通訊、光學(xué)顯示等