真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上，明顯改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍，薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛。

詳細(xì)介紹

大型板材管材真空鍍膜機(jī)工作原理是離子鍍在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成等離子體，對基體進(jìn)行沉積。
應(yīng)用范圍：可以鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍制合金膜或化合物，如TiN/TiAlN/CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機(jī)主要針對大面積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合于在不銹鋼板、不銹鋼管、不銹鋼門等工件表面鍍膜。

特點(diǎn)：
1.裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節(jié)能省電，提高產(chǎn)能。
2.此類設(shè)備真空室尺寸能實(shí)現(xiàn) φ5000X10000MM（長）。
3.是在大型板材、管材上鍍制各類裝飾膜層及功能膜膜層的必選設(shè)備。

低溫離子輔助鍍膜源：
1、大面積離子放電，離化效應(yīng)高, 提高結(jié)合強(qiáng)度，附著力特強(qiáng)。
2、離子分布均勻,大大地改善膜層的穩(wěn)定性和均勻性。
3、離化效應(yīng)好,不需加溫直接鍍制膜層,去掉傳統(tǒng)的加熱裝置，節(jié)電30%以上，鍍膜時(shí)間節(jié)省10%以上，提高工效，實(shí)現(xiàn)低溫鍍膜。
4、發(fā)揮離化效應(yīng)，無論是金屬鍍件、有色金屬制品還是非金屬鍍件直接鍍膜。
5、離化效應(yīng)好,無論是不銹鋼制品還是各類有色金屬制品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍制膜層。
6、是在大型板材、管材上鍍制各類裝飾膜層及功能膜膜層的必選設(shè)備。

型號	HCCA-1800	HCCA-2000	HCCA-3000	HCCA-2000	HCCA-3000	HCCA-4000	HCCA-5000
真空室尺寸	φ1800x2000	φ2000x2000	φ3000x3000	φ2000x6000	φ3000x6000	φ4000x8000	φ5000x10000
真空室機(jī)構(gòu)	立式開門、吊裝或臥室推車結(jié)構(gòu)配置抽氣系統(tǒng)及水冷系統(tǒng)
真空機(jī)組	機(jī)械泵＋羅茨泵＋擴(kuò)散泵/分子泵＋維持泵
真空測量系統(tǒng)	一臺皮拉尼（MKS）一臺冷陰極（MKS）一臺薄膜規(guī)（MKS）
鍍膜系統(tǒng)	電弧蒸發(fā)源、鍍膜輔助離子專用電源
充氣系統(tǒng)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)	質(zhì)量流量計(jì)
電源類型	直流電源、中頻電源、脈沖電源（偏壓電源、弧電源）
控制方式	手動或全自動	手動或全自動	手動或全自動	手動或全自動	手動或全自動	手動或全自動	手動或全自動
極限真空指標(biāo)	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa	5.0x10^-4Pa
電弧源	22臺-28臺	22臺-28臺	26臺-32臺	26臺-32臺	32臺-48臺	32臺-48臺	32臺-48臺
電弧源	200A-300A	200A-300A	200A-300A	200A-300A	200A-300A	200A-300A	200A-300A
偏壓電源	60KW/臺	60KW/臺	70KW/臺	70KW/臺	80KW/臺	80KW/臺	100KW/臺
磁控電源	——	——	——	——	——	——	——
工作轉(zhuǎn)動方式	多軸行星式公自轉(zhuǎn)、變頻調(diào)速（可控可調(diào)）
工作烘烤溫度	常溫-至450℃可控可調(diào)（PID溫控）
工藝氣體	3路或4路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng)選配自動加氣系統(tǒng)
工藝氣體	氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、乙炔?/span>
冷卻方式	水冷卻循環(huán)方式，另配工業(yè)冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)（制冷機(jī)）或深冷系統(tǒng)。（客戶提供）
控制方式	PLC+觸摸屏操作或計(jì)算機(jī)控制，手動、半自動、自動方式
供給指標(biāo)	氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa
報(bào)警及保護(hù)	對泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警、并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施及電氣聯(lián)鎖功能
整體總功率	165-185KW	185-200KW	200-225KW	225-245KW	225-245KW	265-300KW	265-300KW
輸出頻率	電壓380V±5%，頻率50HZ（可根據(jù)客戶國家用電標(biāo)準(zhǔn)配置）
設(shè)備占地面積	25～55㎡	35～55㎡	35～55㎡	45～55㎡	45～55㎡	55～75㎡	55～75㎡
備注	以上設(shè)備參數(shù)僅做參考，具體均按客戶實(shí)際工藝要求設(shè)計(jì)定做