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更新時(shí)間：2024-08-24 08:13:17瀏覽次數(shù)：115次
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上圖是具有不同用途的金剛石薄膜產(chǎn)品，其中左上角是獨(dú)立式金剛石薄膜，右下角是在Si襯底上的金剛石薄膜.產(chǎn)品說明：CVD金剛石薄膜概述：我們可以提供厚度低至50nm的獨(dú)立式金剛石薄膜
上圖是具有不同用途的金剛石薄膜產(chǎn)品，其中左上角是獨(dú)立式金剛石薄膜，右下角是在Si襯底上的金剛石薄膜.
產(chǎn)品說明：CVD金剛石薄膜
概述：
我們可以提供厚度低至50nm的獨(dú)立式金剛石薄膜。它們分別用于以下幾個(gè)方面：
l 超薄X-射線窗口
l 重離子輻射探測器
l 高能粒子輻射發(fā)光屏
l 產(chǎn)生高離化粒子的剝離膜
l 激光加速膜
這樣的金剛石薄膜可以采用獨(dú)立式的，也可以用CVD技術(shù)沉積到附加的支撐基底上。
CVD金剛石薄膜規(guī)格參數(shù)：
| 材料 | CVD光學(xué)級金剛石 |
| 導(dǎo)熱系數(shù) | >1800 W/mK |
| 表面 | 雙面拋光，表面粗糙度< 10 nm rms |
| 尺寸 | 直徑可達(dá)76 mm（依賴于厚度） |
| 厚度 | 在50nm（更薄，可根據(jù)要求）和幾十μm之間 |
| 鍍膜 | 金屬化或介質(zhì)層 |
| 裝配 | 獨(dú)立式或附加到支撐體上 |
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