簡要描述：等離子清洗機表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實驗樣品清洗 ......

詳細介紹

KT-S2DQX型等離子清洗機表面處理設(shè)備屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。

該等離子清洗機表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實驗樣品清洗和教學(xué)

供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	150W
射頻頻率	13.56MHz
頻率偏移量	＜0.2MHz
特性阻抗	50歐姆，手動匹配
耦合方式	感應(yīng)耦合式（線圈耦合）
真空度	≤100Pa
腔體材質(zhì)	高純石英
腔體容積	2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)
觀察窗內(nèi)徑	Φ70
氣體流量	10—600ml/min（其他量程可選）
過程控制	過程手動控制
清洗時間	手動開關(guān)
開蓋方式	鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸	400x380x360mm
重量	23Kg
真空室溫度	小于65°C
冷卻方式	強制風冷
標配	KF16波紋管1米，kf16卡箍2個，電源線一根，說明書一本。

等離子清洗機具備有超清洗功能，并且在特定條件下還可根據(jù)需要改變用于某些材料表面的性能，如把等離子清洗機的等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過程中等離子清洗機的輝光放電不但能夠加強多數(shù)材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

關(guān)鍵詞：等離子清洗機清洗設(shè)備繼電器真空泵

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