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ParticleTrack G400實(shí)時(shí)粒徑與粒數(shù)分析儀

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更新時(shí)間：2021-07-16 14:14:41瀏覽次數(shù)：558次

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福州精科儀器儀表有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

在實(shí)驗(yàn)室中研究顆粒粒徑和粒數(shù)采用FBRM技術(shù)的ParticleTrackG400是直接插入到實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)器中的探頭式儀器，以便在全工藝過(guò)程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化

詳細(xì)介紹

在實(shí)驗(yàn)室中研究顆粒粒徑和粒數(shù)

采用 FBRM 技術(shù) 的 ParticleTrack G400 是直接插入到實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)器中的探頭式儀器，以便在全工藝過(guò)程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化。隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化，持續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒、顆粒結(jié)構(gòu)和液滴為科學(xué)家提供足夠證據(jù)以獲得具有所需屬性的一致顆粒。

顆粒粒徑與粒數(shù)直接影響多相工藝中的性能，包括結(jié)晶、乳化和絮凝。通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù)，科學(xué)家能夠使用基于證據(jù)的方法自信地了解、優(yōu)化和放大實(shí)驗(yàn)過(guò)程。

在為離線(xiàn)分析進(jìn)行采樣和制備時(shí)，顆粒可能發(fā)生變化。通過(guò)追蹤過(guò)程中自然存在的顆粒的粒徑與粒數(shù)的變化，科學(xué)家能夠安全且無(wú)延遲地了解工藝過(guò)程 – 甚至是在溫度與壓力條件下。

隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化，通過(guò)連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒，能夠確定過(guò)程參數(shù)對(duì)顆粒粒徑和粒數(shù)的影響。這種*的信息可用于設(shè)計(jì)能夠持續(xù)提供具有優(yōu)化特性的顆粒的過(guò)程。

縱覽

實(shí)驗(yàn)室中 ParticleTrack G400 的常見(jiàn)應(yīng)用包括：

? 結(jié)晶工藝開(kāi)發(fā)

? 表征乳化和液滴系統(tǒng)

? 優(yōu)化顆粒粒徑分布

ParticleTrack G400 的主要特征：

? 設(shè)計(jì)緊湊，具有便攜性，占用最小空間的實(shí)驗(yàn)室

? 探頭可互換，可用于范圍廣泛的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模(10mL 至 2L)

? 與 OptiMax 和 EasyMax 合成工作站無(wú)縫集成，進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)設(shè)置

? iC FBRM 軟件，進(jìn)行快速、直觀的顆粒數(shù)據(jù)分析

ParticleTrack G400 比以前的梅特勒-托利多 Lasentec FBRM 技術(shù)(S400 和 D600)有了重大改進(jìn)。

? 實(shí)時(shí)研究顆粒粒徑與粒數(shù)

科學(xué)家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過(guò)程流體中，以長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù)，而無(wú)需采樣。這種*的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過(guò)程的基礎(chǔ)。

? 借助 ParticleTrack將過(guò)程與顆粒系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)

科學(xué)家可以定期確定過(guò)程參數(shù)如何影響顆粒系統(tǒng)。可以確定過(guò)程參數(shù)對(duì)生長(zhǎng)、團(tuán)聚、破損和形狀變化等機(jī)制的影響，從而可以使用基于證據(jù)的方法對(duì)過(guò)程進(jìn)行優(yōu)化和改進(jìn)。

? 創(chuàng)建符合目的的顆粒系統(tǒng)

科學(xué)家使用 ParticleTrack 來(lái)確定如何穩(wěn)定得到所需粒徑和粒數(shù)的顆粒產(chǎn)品。在研發(fā)、中試到投入生產(chǎn)的過(guò)程中，通過(guò)選擇的過(guò)程參數(shù)，科學(xué)家可以以較低的總成本快速向市場(chǎng)提供高品質(zhì)的顆粒產(chǎn)品。

? 監(jiān)測(cè)并糾正過(guò)程偏差

ParticleTrack 用于對(duì)生產(chǎn)中的既定過(guò)程進(jìn)行監(jiān)測(cè)、故障排除和改進(jìn)。可以安全地監(jiān)測(cè)難以采樣的復(fù)雜過(guò)程，確保一致地生產(chǎn)質(zhì)量盡可能的顆粒。

規(guī)格 - ParticleTrack G400

測(cè)量范圍	0.5 – 2000μm; 0.5-2000um
溫度范圍（主機(jī)/現(xiàn)場(chǎng)裝置）	5 至35°C
主機(jī)說(shuō)明	實(shí)驗(yàn)室主機(jī)
主機(jī)尺寸(高x寬x長(zhǎng))	89 mm x 237 mm x 492 mm
認(rèn)證	CE 認(rèn)證， 1 類(lèi)激光， NRTL 認(rèn)證， CB Scheme 認(rèn)證
電源要求	100-240VAC, 50/60Hz, 1.2A
適用于	實(shí)驗(yàn)室： EasyMax/OptiMax
軟件	iC FBRM
掃描系統(tǒng)	電子掃描儀
掃描速度	2m/s （19mm探頭為1.2m/s）
弦長(zhǎng)選擇方法(CSM)	Primary（精細(xì)）和 Macro（粗糙）
探頭直徑	14/9.5mm; 19mm探頭; 9.5mm
探頭浸濕長(zhǎng)度	206mm （用于 14/9.5mm 探頭）; 400mm （用于 19mm 探頭）; 91mm （用于 9.5mm 探頭）
探頭浸濕合金	C22
窗口(W)	藍(lán)寶石
標(biāo)準(zhǔn)窗口封條	Kalrez® （標(biāo)準(zhǔn) 19mm）; TM（標(biāo)準(zhǔn) 14/9.5 ）; TM（標(biāo)準(zhǔn)9.5,14/9.5）
探頭/窗口選件	TM 窗口（用于19mm 探頭的選件）
額定壓力（探頭）	3barg （標(biāo)準(zhǔn)）; 高達(dá) 100barg （自定義）
額定溫度（探頭）	-10 至 90°C （Kalrez 和清洗）; -80 至 90°C （TM 和清洗）; +10 至 90°C （標(biāo)準(zhǔn)）
導(dǎo)管長(zhǎng)度	3m [9.8ft]
空氣要求	低流量清洗（使用以避免冷凝物）; 流量： 5NL/min [0.2SCFM]; 清洗歧管的入口壓力： 8.6barg [125 psig]; 清洗歧管的出口壓力： 0.8barg [12psig]
ParticleTrack型號(hào)	ParticleTrack G400
物料號(hào) (s)