諸城市吉豐機(jī)械科技有限公司作者
臭氣處理設(shè)備的工藝技術(shù)
資料類(lèi)型 | jpg文件 | 資料大小 | 198991 |
下載次數(shù) | 53 | 資料圖片 | 【點(diǎn)擊查看】 |
上 傳 人 | 諸城市吉豐機(jī)械科技有限公司 | 需要積分 | 0 |
關(guān) 鍵 詞 | 廢氣處理設(shè)備,廢氣凈化設(shè)備,廢氣吸附設(shè)備,工業(yè)廢氣處理設(shè)備,臭氣處理設(shè)備 |
- 【資料簡(jiǎn)介】
臭氣處理設(shè)備,主要是運(yùn)用不同工藝技術(shù),通過(guò)回收或去除減少排放尾氣的有害成分,達(dá)到保護(hù)環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設(shè)備。
有機(jī)廢氣的燃燒及催化凈化設(shè)備
燃燒法用于處理高濃度VOC與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理。
工業(yè)有機(jī)廢氣的低溫等離子體的臭氣處理設(shè)備
等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,其英文名稱(chēng)是Plasma,它是由美國(guó)科學(xué) Muir,于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時(shí)命名的。等離子體由大量的中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱(chēng)為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。
根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達(dá)104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】

div6月3日,2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】于上海丨國(guó)家會(huì)展中[詳細(xì)]
- 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源:環(huán)保在線"的所有作品,版權(quán)均屬于環(huán)保在線,轉(zhuǎn)載請(qǐng)必須注明環(huán)保在線,http://m.hg1112.cn。違反者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。
- 企業(yè)發(fā)布的公司新聞、技術(shù)文章、資料下載等內(nèi)容,如涉及侵權(quán)、違規(guī)遭投訴的,一律由發(fā)布企業(yè)自行承擔(dān)責(zé)任,本網(wǎng)有權(quán)刪除內(nèi)容并追溯責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來(lái)源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性,不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。