團簇式PECVD
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該系列PECVD系統(tǒng)具有固態(tài)等離子源、分開式反應氣體進氣系統(tǒng),動態(tài)襯底溫控,全面控制真空系統(tǒng),采用集中現(xiàn)場控制總線技術的“值守精靈”控制軟件,以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積,同時可實現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。
清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;上開啟結構,式樣觀察方便;觸屏人機對話整體性操作,安全可靠;;產(chǎn)品采用全自動控制方式,觸摸屏,數(shù)字化顯示;真空系統(tǒng)、工作壓強、電源系統(tǒng)及自動匹配、工藝氣體流量、加熱系統(tǒng)、運動系統(tǒng)、工藝過程、系統(tǒng)監(jiān)控及數(shù)據(jù)采集等。
公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京、天津、河北
北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國·首都北京密云經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產(chǎn)品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗,同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創(chuàng)造外匯,打出中國創(chuàng)造的!
我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!
您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營目標!
技術創(chuàng)新、業(yè)務專業(yè)、服務誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念!
我們熱誠歡迎國內(nèi)外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成*的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應商。
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該系列PECVD系統(tǒng)具有固態(tài)等離子源、分開式反應氣體進氣系統(tǒng),動態(tài)襯底溫控,全面控制真空系統(tǒng),采用集中現(xiàn)場控制總線技術的“值守精靈”控制軟件,以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積