公司介紹：
NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發(fā)與銷售經(jīng)驗。在范圍內(nèi)，通過與眾多來自同步輻射科學，阿秒科學，高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作，積累了大量*的設計與制造技術，其產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點，適合被各種輻射光設施使用。另外，分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準。不只是學術研究，在X射線的檢查裝置開發(fā)現(xiàn)場也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X線領域給予客戶在研發(fā)上的幫助。
產(chǎn)品介紹：
具有高透明度和長使用壽命的優(yōu)質(zhì) XUV濾光片
優(yōu)點：
恩梯梯技術公司的用于各種XUV實驗的極紫外（XUV或EUV）濾光片具有高透明度、高穩(wěn)定性和長使用壽命。此優(yōu)質(zhì)濾光片無針孔、無支撐網(wǎng)和支撐膜，并覆有抗氧化涂層。
恩梯梯技術公司提供的優(yōu)質(zhì)無支撐XUV 濾光片在金屬薄膜兩側覆有抗氧化涂層，實現(xiàn)了高透明度和長使用壽命。
標準規(guī)格：
濾光片尺寸：6毫米×10毫米
濾光片厚度：100納米
支架尺寸：直徑 28毫米
濾光片列表：
Zr（用于波長10至20納米）
Al（用于波長20至50納米）
Sn、SiN（用于波長3至5納米）
In、SiN（用于波長3至5納米）
尺寸、厚度等可根據(jù)需求定制。
示例（濾光片厚度：100納米）
在本公司的演示中，恩梯梯技術公司的抗氧化Al XUV 濾光片制造后3個月時的透明度比傳統(tǒng)Al濾光片高2至5倍。因抗氧化涂層的作用，該XUV 濾光片能長時間穩(wěn)定使用。
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恩梯梯技術公司的XUV、EUV濾光片因為無支撐網(wǎng)和支撐材料，所以具有出色的高透明度和透射光束質(zhì)量。因能長時間穩(wěn)定使用，該濾光片已被用于許多需要長時間輻射的實驗環(huán)境。
