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EVOCs-2000大氣揮發(fā)性有機物(VOCs)在線分析儀,江蘇天瑞儀器股份有限公司

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱江蘇天瑞儀器股份有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2024/7/11 8:34:47
訪問次數(shù)135

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公司介紹主營產(chǎn)品

江蘇天瑞儀器股份有限公司成立于1992年，是一家專業(yè)從事分析測試儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的化高科技企業(yè)，目前公司在X射線熒光光譜分析領(lǐng)域已獲得三個世界*的成績：
  核心技術(shù)同行業(yè)中*
  銷售量同行業(yè)中*
  產(chǎn)品品種同行業(yè)中*

天瑞儀器將以“行業(yè)技術(shù)*”的姿態(tài)，不斷探究世界分析領(lǐng)域的*。為客戶提供更加*的產(chǎn)品和更加滿意的服務(wù)。

展開顯示更多內(nèi)容

PM2.5在線監(jiān)測儀，大氣重金屬在線監(jiān)測儀，水質(zhì)重金屬在線監(jiān)測儀

產(chǎn)品簡介在線詢價

EVOCs-2000大氣揮發(fā)性有機物(VOCs)在線分析儀是天瑞新研制的大氣中微量VOCs的在線檢測設(shè)備

EVOCs-2000大氣揮發(fā)性有機物(VOCs)在線分析儀,江蘇天瑞儀器股份有限公司產(chǎn)品信息

EVOCs-2000大氣揮發(fā)性有機物(VOCs)在線分析儀是天瑞新研制的大氣中微量VOCs的在線檢測設(shè)備。

儀器預(yù)處理系統(tǒng)采用低溫吸附與高溫脫附過程，根據(jù)美EPA方法要求，搭配自主研發(fā)的吸附劑以達到微量VOCs的濃縮預(yù)處理。

后端檢測器可根據(jù)多種VOCs同步監(jiān)測的需求，依據(jù)家相關(guān)污染檢測方法和美環(huán)保公告方法中的要求，根據(jù)美EPA TO-14、TO-15和PAMS方法中107種VOCs有機物的性質(zhì)，選用天瑞儀器自主研發(fā)FID、GC-MS、ECD、FPD等多種檢測器，滿足在線監(jiān)測的需求，達到高精度污染物濃度分析水準。

詳細資料

技術(shù)參數(shù)

（1）監(jiān)測指標：美EPA TO-14、TO-15和PAMS方法中涵蓋的107種VOCs及硫化物
（2）低溫吸附溫度：-40℃~-150℃；
（3）高溫脫附溫度：150℃~450℃
（4）脫附升溫速率：40℃/s
（5）檢出限：TO-14標氣物質(zhì)：< 1ppb
TO-15標氣物質(zhì)：<5ppb
PAMS標氣物質(zhì)：< 1ppb
硫化物: <0.5ppb
（6）精密度：VOCs: <5 %
硫化物: <10 %
（7）質(zhì)控過程：真實樣品和零跨度校正和校準曲線
（8）系統(tǒng)誤差：VOCs: <15 %的滯留時間（30天內(nèi)）; < 10%的校正濃度（30天內(nèi)）；
硫化物: <15 %的滯留時間（30天內(nèi)）; < 15%的校正濃度（30天內(nèi)）
（9）分析時間：< 60分鐘，可根據(jù)客戶要求調(diào)節(jié)
（10）可用檢測器：ECD&FID (TO-14)、GC-MS (TO-15)、ECD&FID (TO-15)、FPD (硫化物）
（11）可使用GC-MS品牌：天瑞儀器、安捷倫、島津、珀金埃爾默（依客戶需求配置）

性能特點

（1）使用標準要求多色譜切換方式
可檢測更廣范圍的小分子和大分子VOCs，并根據(jù)VOCs的種類自動切換適當?shù)臋z測器，其中C2–C5碳氫化合物采用FID檢測，C6-C12碳氫化合物采用GC-MS或ECD檢測，硫化物采樣FPD檢測。
（2）可同步監(jiān)測107種VOCs
靈活使用不同檢測器與多色譜柱方式，并調(diào)整吸附劑配方分析PAMS和TO-15/TO-14中的有機物，涵蓋C2-C12碳氫類、鹵代烴類、含氧類VOCs物質(zhì)。
（3）分析硫化物濃度
選用只對硫類化合物有響應(yīng)的FPD檢測器,可避免其他物質(zhì)的干擾。
（4）C2物質(zhì)的分析度高
系統(tǒng)前濃縮裝置具有-30℃以下的吸附低溫能力，C2物質(zhì)可符合標準要求的分析精度，數(shù)據(jù)定量可信。
（5）監(jiān)測靈敏度高
具有良好穩(wěn)定的吸脫附性能，搭配實驗室級別的檢測器，探測靈敏度可達到1ppb量級以下，硫化物可達0.5ppb以下。
（6）使用丁氏切換裝置，與際監(jiān)測標準致
使用丁氏切換使低碳與高碳物質(zhì)切換至合適吸附管柱的方式，避免了傳統(tǒng)樣品分流方式帶來的低碳監(jiān)測分析上的干擾與誤差。