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瑞士高分辨深紫外光刻機(jī)

參考價(jià)	￥ 20
訂貨量	≥1件

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
品牌其他品牌
型號PhableR
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2025/5/13 9:38:44
訪問次數(shù)129

產(chǎn)品標(biāo)簽:

高分辨深紫外光刻機(jī)光刻

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器，擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時(shí)也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

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電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設(shè)備，鍍膜設(shè)備，光刻機(jī)，半導(dǎo)體工藝設(shè)備

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口

PHABLE設(shè)備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術(shù)，通過低成本的光刻系統(tǒng)提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統(tǒng)光刻中衍射的局限性，可曝光出質(zhì)量優(yōu)異的亞微米周期圖案。非接觸式曝光可同時(shí)保護(hù)掩模版和晶圓，無聚焦成像技術(shù)可實(shí)現(xiàn)在非平面基材和厚光刻膠上進(jìn)行均勻曝光。

瑞士高分辨深紫外光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

PhableR具備以低成本光刻系統(tǒng)曝光高分辨率周期性結(jié)構(gòu)的能力。它類似于傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)，將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術(shù)，分辨率不再受到不希望出現(xiàn)的衍射效應(yīng)的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結(jié)構(gòu)(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均勻性和保真度。

PhableR 100 DUV光刻機(jī)是一款針對科研和研發(fā)的基礎(chǔ)手動(dòng)機(jī)臺。對于納米周期性結(jié)構(gòu)，不需要復(fù)雜的工藝過程或經(jīng)驗(yàn)，就可以制作大面積，均勻性和重復(fù)性好的一維、二維光柵結(jié)構(gòu)。有關(guān)設(shè)備和服務(wù)的一些特點(diǎn)：

1. 設(shè)備操作簡單

2. 與前后道工藝和配套設(shè)備兼容性性好

應(yīng)用廣泛，包括: