一、工作原理

12英寸槽式清洗設(shè)備主要通過傳輸模塊將待清洗的12英寸晶圓傳送到指定位置，可同時(shí)傳送多片晶圓。然后利用不同的化學(xué)試劑槽進(jìn)行清洗，在清洗過程中，晶圓與化學(xué)試劑充分接觸，去除表面的污垢、雜質(zhì)、有機(jī)物等污染物。清洗完成后，再通過干燥槽進(jìn)行干燥處理，使晶圓表面快速干燥，避免水漬殘留。例如，酸槽用于存放酸性清洗液，對(duì)晶圓表面的金屬氧化物、污漬等進(jìn)行腐蝕和溶解；水槽用于清洗掉酸液或其他雜質(zhì)；干燥槽則通過熱風(fēng)或其他干燥方式使晶圓表面快速干燥。

二、主要構(gòu)成部分

耐腐蝕機(jī)架：作為設(shè)備的支撐結(jié)構(gòu)，需具備良好的耐腐蝕性以適應(yīng)清洗過程中可能接觸到的各種化學(xué)試劑，確保設(shè)備的穩(wěn)定性和耐用性。

工藝槽體：包括酸槽、水槽、干燥槽等，這些槽體是清洗的核心部件，分別盛裝不同類型的化學(xué)試劑或用于干燥處理。

控制單元：通常采用控制系統(tǒng)，如PLC自動(dòng)控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)清洗過程的自動(dòng)化控制。操作人員可以通過控制單元設(shè)置清洗參數(shù)，如清洗時(shí)間、溫度、化學(xué)試劑的流量和濃度等，以滿足不同物品和清洗工藝的要求。

排風(fēng)單元：負(fù)責(zé)將清洗過程中產(chǎn)生的有害氣體、蒸汽等排出室外，保證工作環(huán)境的安全和清潔，同時(shí)防止有害氣體在工作區(qū)域內(nèi)積聚對(duì)人體造成傷害。

氣體和液體管路單元：包括各種管道、閥門、泵等部件，用于輸送化學(xué)試劑、清洗液和氣體等介質(zhì)，確保介質(zhì)的流動(dòng)順暢和穩(wěn)定供應(yīng)。

三、設(shè)備特點(diǎn)

清洗效果好：能夠有效去除晶圓表面的污垢、油脂、氧化物等雜質(zhì)，確保半導(dǎo)體器件的性能和質(zhì)量。

生產(chǎn)效率高：可以同時(shí)處理多片晶圓，適用于批量生產(chǎn)和大規(guī)模清洗的需求，能夠在短時(shí)間內(nèi)完成大量晶圓的清洗工作，提高生產(chǎn)效率。

成本較低：相較于單片式清洗設(shè)備等其他清洗方式，槽式清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)和控制系統(tǒng)相對(duì)簡(jiǎn)單，制造和維護(hù)成本較低，能夠?yàn)槠髽I(yè)節(jié)省投資和運(yùn)營(yíng)成本。

軟件定制能力強(qiáng)：軟件量身定制，具備快速更新能力，可配備多藥液工藝槽，支持DIO?等附屬功能，能夠滿足不同客戶的特定需求。

溫度控制穩(wěn)定：具有較高的溫度控制穩(wěn)定性，能夠精確控制清洗過程中的溫度，保證清洗效果的一致性。

補(bǔ)水精度高：超高的補(bǔ)水精度，可確保清洗液的濃度和純度，提高清洗質(zhì)量。

蝕刻速率控制精準(zhǔn)：精準(zhǔn)的蝕刻速率控制，可根據(jù)工藝要求對(duì)蝕刻速率進(jìn)行精確調(diào)整，滿足不同工藝的需求。

干燥效果優(yōu)秀：優(yōu)秀的干燥效果，能夠使晶圓表面快速干燥，避免水漬殘留，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

四、應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：用于硅片、晶圓等半導(dǎo)體材料的清洗，去除光刻膠、蝕刻殘留物、顆粒等污染物，確保半導(dǎo)體器件的性能和質(zhì)量。例如在晶圓的預(yù)清洗、光刻后清洗、蝕刻后清洗等工藝步驟中發(fā)揮重要作用。

微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）制造：清洗MEMS器件的表面，去除微小的顆粒、有機(jī)物等雜質(zhì)，保證MEMS器件的精度和可靠性。

光伏領(lǐng)域：清洗太陽能電池板、硅片等光伏材料和部件，提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和性能。例如在太陽能電池板的生產(chǎn)過程中，使用槽式清洗設(shè)備去除表面的灰塵、油污等污染物，有助于提高電池板的質(zhì)量和發(fā)電效率。

光學(xué)行業(yè)：可用于清洗光學(xué)鏡片、鏡頭等光學(xué)元件，去除表面的指紋、油污、灰塵等污染物，提高光學(xué)元件的透光性和成像質(zhì)量。