我司提供工業(yè)生產EDI超純水設備 

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一、EDI超純水設備簡介

EDI超純水設備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備。在嚴格執(zhí)行ISO-9001質量體系標準的前提下，采用世界上的反滲透膜元件。壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設備及后處理設備，使產品出水符合各類工業(yè)生產標準的超純水。控制系統(tǒng)選用PLC程序控制，可實現(xiàn)自動起停、加藥及沖洗，自動監(jiān)測各種運行參數(shù)，并可實現(xiàn)運行參數(shù)的儲存及打印廣泛適用于： 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學試劑光導纖維、光盤等。

二、EDI超純水設備典型工藝流程

1.預處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

2.預處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

3.預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)

4.預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－精密過濾器（0.2或0.5μm）－用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)

5.預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)

三、EDI超純水設備的應用

●工業(yè)生產用水，如單晶硅超純水設備、半導體純水處理設備、集成電路塊用水設備、IC芯片封裝用水設備、顯象管用水設備、玻殼超純水處理

●LCD液晶清洗用水設備、光學水處理，光學玻璃清洗用水設備、光電超純水設備

●熱電廠用水、冶金工業(yè)用水、化工純水設備、輕工工程用水、汽車制造清洗用水

●制藥純化水、醫(yī)療衛(wèi)生等制造工業(yè)用純水。

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