鄭州科佳電爐有限公司
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜技術(shù)生長的一種系的制備技術(shù)
產(chǎn)品型號：KJ-PECVD-D1所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單
產(chǎn)品型號：KJ-OTF-1700-F5所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：KJ-CVD是一種分體式管式爐，配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：KJ-T1600 CVD所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-S440所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實(shí)現(xiàn)TEOS...
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-PE所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜
產(chǎn)品型號：KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品介紹：該雙爐體CVD系統(tǒng)為定制款，適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗
產(chǎn)品型號：KJ-T1200-W2所在地：鄭州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡介：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備60mm直徑氧化鋁管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計+一個浮子流量計氣體流動系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：KJ-T1200所在地：鄭州市更新時間：2025-05-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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