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當前位置：四方光電（武漢）儀器有限公司>>過程氣體分析儀>>煤氣分析儀>> GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號GasTDL-3100
品 牌四方儀器
廠商性質生產(chǎn)商
所 在 地武漢市
更新時間：2025-02-26 09:28:14瀏覽次數(shù)：2293次
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| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 儀器原理 | 其他原理 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 在線式 |
原位激光過程氣體分析儀
原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器，采用對射式設計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體濃度。
產(chǎn)品特性
1、采用TDLAS技術，被測氣體不受背景氣體交叉干擾
2、原位安裝，無需采樣預處理系統(tǒng)
3、響應快速(T90≤1s)，可實時反應氣體濃度
4、實時在線測量，氣體濃度不易失真，測量精度高
5、在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應性
6、隔爆防爆設計，安全系數(shù)高
7、構造簡潔，無可動元件，無損耗元件，免維護
技術參數(shù)
| 性能參數(shù) | |
| 測量組份 | O2、CO、CO2、CH4* |
| 測量原理 | TDLAS |
| 測試范圍 | O2:(0 ～ 5)%VOL （可定制100'%） CO:(0 ～ 100)%VOL CO2:(0 ～ 100)%VOL CH4:(0 ～ 20)%VOL |
| 精度 | ≤±1%F.S. |
| 重復性 | ≤±1%F.S. |
| 量程漂移 | ≤±1%F.S. |
| 分辨率 | 0.01%VOL |
| 響應時間 | T90≤1s |
| 工作參數(shù) | |
| 防爆等級 | Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db |
| 安裝方式 | 原位安裝 |
| 環(huán)境溫度 | （-20～ +60）℃ |
| 工作電源 | 24V DC，24W |
| 吹掃氣體 | （0.3～ 0.8）MPa工業(yè)氮氣 |
| 接口信號 | |
| 通訊 | RS485、RS232 |
| 輸出模式 | 2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出 |
| *注釋：每套分析儀測量單一組分氣體濃度 | |
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