收費(fèi)站污水處理裝置設(shè)備

背景技術(shù)
我國(guó)水資源短缺，城市缺水問(wèn)題突出，污水處理回用是戰(zhàn)略選擇，意義重大，城市污水處理回用在替代清潔水源的同時(shí)減少了污水排放量，降低了城市排污負(fù)荷，具有水量穩(wěn)定、輸水距離短、制水成本低等特點(diǎn)，可以提供安全可靠的替代水源，是解決城市缺水問(wèn)題的戰(zhàn)略選擇。但目前采用的辦法多是沉淀過(guò)濾法，沉淀過(guò)濾時(shí)一般都是采用網(wǎng)狀、有細(xì)縫隙的布狀、或用砂粒等物體進(jìn)行過(guò)濾，這樣的過(guò)濾效果并不理想，一是過(guò)濾不*，二是很容易形成堵塞，運(yùn)行成本高，為此，我們提出了一種方位且深度過(guò)濾的污水處理裝置。

收費(fèi)站污水處理裝置設(shè)備

二級(jí)厭氧+厭氧氨氧化+MBR組合工藝的技術(shù)優(yōu)勢(shì)
（1）系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定。
組合工藝充分結(jié)合厭氧反應(yīng)器去除COD、厭氧氨氧化技術(shù)去除總氮、膜生物反應(yīng)器高效分離的優(yōu)勢(shì)，將多級(jí)厭氧反應(yīng)器、厭氧氨氧化技術(shù)、膜生物反應(yīng)器技術(shù)進(jìn)行結(jié)合，具有不需外加碳源、脫氮效率高、系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定、剩余污泥產(chǎn)量低等優(yōu)點(diǎn)。
（2）充分發(fā)揮厭氧處理的優(yōu)勢(shì)。
垃圾滲濾液處理系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置多級(jí)厭氧反應(yīng)器，可以有效地降低垃圾滲濾液中的COD濃度，為后續(xù)的厭氧氨氧化單元?jiǎng)?chuàng)造有利進(jìn)水條件。由于整個(gè)厭氧處理過(guò)程不需要供氧，因此能源消耗非常低，可以有效降低處理成本，同時(shí)也可減少很多操作上的維修問(wèn)題。
（3）充分實(shí)現(xiàn)污水資源化。
由于大程度發(fā)揮厭氧反應(yīng)的作用，有機(jī)污染物在厭氧條件下充分降解，產(chǎn)生的沼氣作為有效的能源重復(fù)利用，可以充分實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的資源化利用。
（4）良好的脫氮效果。
厭氧氨氧化單元可以大幅去除系統(tǒng)的氨氮、總氮，將后續(xù)膜生物反應(yīng)器的負(fù)荷降低至正常水平，可以充分地發(fā)揮出膜生物反應(yīng)器處理效率高、固液分離效果好、脫氮穩(wěn)定高效的優(yōu)點(diǎn)，使其出水穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。
（5）有效降低好氧處理的能耗。
利用厭氧反應(yīng)器去除COD、利用厭氧氨氧化技術(shù)進(jìn)行脫氮，相比傳統(tǒng)工藝中好氧去除COD、硝化反硝化脫氮，極大地降低了鼓風(fēng)曝氣、混合液回流等能耗，總體電耗降低50%～60%。
（6）不需外加碳源。
對(duì)于傳統(tǒng)的硝化反硝化脫氮工藝，為保證脫氮效果，通常采用二級(jí)硝化反硝化，需要在二級(jí)反硝化池內(nèi)投加碳源。厭氧+厭氧氨氧化+MBR組合工藝采用厭氧氨氧化，大幅去除氨氮，只需設(shè)計(jì)一級(jí)硝化反硝化即可，不需要額外投加碳源，是一種穩(wěn)定可持續(xù)的生物處理技術(shù)。

工藝流程
（1）垃圾滲濾液首入一級(jí)厭氧反應(yīng)器，垃圾滲濾液在一級(jí)厭氧處理反應(yīng)器中水力停留時(shí)間為8～12d，反應(yīng)器內(nèi)污泥濃度為8～12g/L，一級(jí)厭氧反應(yīng)器中污泥停留時(shí)間為25～40d。
（2）一級(jí)厭氧反應(yīng)器出水進(jìn)入二級(jí)厭氧反應(yīng)器，二級(jí)厭氧反應(yīng)器中水力停留時(shí)間為4～10d，反應(yīng)器內(nèi)污泥濃度為6～8g/L，二級(jí)厭氧反應(yīng)器中污泥停留時(shí)間為18～35d。
（3）二級(jí)厭氧反應(yīng)器出水進(jìn)入?yún)捬醢毖趸磻?yīng)器中，厭氧氨氧化反應(yīng)器中的污泥濃度為3～10g/L，厭氧氨氧化反應(yīng)器中污泥停留時(shí)間（SRT）為10～35d，向厭氧氨氧化反應(yīng)器鼓入氧氣，使反應(yīng)器中的溶解氧（DO）保持在0.1～0.5mg/L，氧化還原電位（ORP）控制在-200～50mV。
（4）厭氧氨氧化反應(yīng)器出水進(jìn)入沉淀池進(jìn)行固液分離，沉淀池水力停留時(shí)間為1.5~2.5h，沉淀池污泥回流至厭氧氨氧化反應(yīng)器中。
（5）沉淀池出水進(jìn)入缺氧池，缺氧池中水力停留時(shí)間為0.5~1h，缺氧池中的溶解氧（DO）控制在0.2～1.0mg/L，污泥濃度為3～4.5g/L。
（6）缺氧池出水進(jìn)入好氧池，好氧池中停留時(shí)間為10~24h，向好氧池中鼓入氧氣，使好氧池中的DO維持在2.5～4.0mg/L，污泥濃度為3～5g/L，好氧池末端混合液回流到缺氧池，回流比為200%~400%，在好氧池末端或后部設(shè)置超濾膜進(jìn)行固液分離，固液分離后的出水進(jìn)入后續(xù)深度處理工藝進(jìn)行處理。
工藝原理
利用二級(jí)（多級(jí)）厭氧、厭氧氨氧化和MBR等技術(shù)單元的組合工藝，解決傳統(tǒng)處理技術(shù)存在運(yùn)行能耗高、需要額外投加碳源、出水效果不穩(wěn)定等缺點(diǎn)，以應(yīng)用于垃圾焚燒廠垃圾滲濾液的處理。
厭氧處理采用多級(jí)厭氧反應(yīng)器（兩級(jí)及以上），實(shí)現(xiàn)較高的氨化效率和COD去除率。一級(jí)厭氧反應(yīng)器維持較高的污泥濃度，在高負(fù)荷條件下運(yùn)行，將進(jìn)水中的COD降低70%～85%；二級(jí)厭氧反應(yīng)器污泥濃度、負(fù)荷較一級(jí)厭氧反應(yīng)器略低，進(jìn)一步降低COD，實(shí)現(xiàn)去除率60%～75%，使其滿足后續(xù)膜生物反應(yīng)器的有利運(yùn)行條件。當(dāng)進(jìn)水COD濃度過(guò)高，兩級(jí)厭氧反應(yīng)器不能滿足COD處理要求時(shí)，可以采用三級(jí)厭氧反應(yīng)器串聯(lián)的方式。在實(shí)際應(yīng)用中，通常選擇厭氧生物濾池、UASB、IC、EGSB等厭氧反應(yīng)器，也可以選擇其他厭氧反應(yīng)器。
厭氧氨氧化反應(yīng)器依靠微生物的作用實(shí)現(xiàn)對(duì)氮的去除，包括厭氧氨氧化反應(yīng)、短程反硝化反應(yīng)等，其微生物主要包括厭氧氨氧化菌、自養(yǎng)型反硝化菌和異養(yǎng)型反硝化菌等；在不需要外加碳源的條件下，實(shí)現(xiàn)氨氮去除率大于85%，總氮去除率大于80%。厭氧氨氧化反應(yīng)器通過(guò)鼓風(fēng)機(jī)提供氧氣，用于亞硝化反應(yīng)的進(jìn)行，如將氨氮氧化為亞硝氮等。
厭氧氨氧化反應(yīng)器的具體實(shí)施形式可以以活性污泥狀態(tài)、生物膜狀態(tài)實(shí)施，其池型可以是長(zhǎng)方形的推流式結(jié)構(gòu)，也可以是溝道式結(jié)構(gòu)，或可以采用同時(shí)進(jìn)出水的潷水器形式。厭氧氨氧化池采用主要控制溶解氧，參考控制氧化還原電位（ORP）的運(yùn)行方式，限制鼓風(fēng)機(jī)對(duì)池體中的供氧，創(chuàng)造厭氧氨氧化菌群的優(yōu)勢(shì)生長(zhǎng)條件，使亞硝化細(xì)菌可以將部分氨氮氧化為亞硝氮，亞硝氮又與其他氨氮在厭氧氨氧化細(xì)菌的作用下轉(zhuǎn)化為氮?dú)猓瑢?shí)現(xiàn)對(duì)總氮的去除。
MBR系統(tǒng)由缺氧池、好氧池和膜分離系統(tǒng)組成，通過(guò)兩級(jí)厭氧反應(yīng)器和厭氧氨氧化反應(yīng)器的處理后，使MBR系統(tǒng)進(jìn)水中C/N達(dá)到合適比例，滿足系統(tǒng)脫氮的要求，同時(shí)去除水中剩余的COD、氨氮等，穩(wěn)定達(dá)到出水排放標(biāo)準(zhǔn)。MBR處理系統(tǒng)中的膜組件，采用內(nèi)置式超濾膜。
設(shè)備維護(hù)
1、具有脫氮除磷能力，并可以通過(guò)調(diào)節(jié)設(shè)備的構(gòu)造，達(dá)到處理工業(yè)廢水，生活污水，城市污水的能力；
2、接觸氧化池內(nèi)的填料多為組合軟填料，質(zhì)輕、高強(qiáng)、物理化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，比表面積大，生物膜附著能力強(qiáng)，污水與生物膜的接觸效率高；
3、接觸氧化池內(nèi)采用曝氣器進(jìn)行鼓風(fēng)曝氣，使纖維束不斷漂動(dòng)，曝氣均勻，微生物生長(zhǎng)成熟，具有活性污泥法的特征；
4、出水水質(zhì)穩(wěn)定，污泥產(chǎn)量少并易于處理；
5、潛水泵中可設(shè)于設(shè)備之中，減少工程投資；
6、設(shè)備可設(shè)于地面上，也可埋于地下。埋于地下時(shí)，上部覆上可用于綠化，廠區(qū)占地面積少，地面構(gòu)筑物少。