武漢賽斯特精密儀器有限公司
會(huì)員1.png)
詳細(xì)摘要： 紅外后對(duì)準(zhǔn)雙面刻機(jī) 包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus則是大量生產(chǎn)所使用的設(shè)備。包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus則是大量生產(chǎn)所使用的設(shè)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2022-10-18 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積表面改造提升處理系統(tǒng) 存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-08-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積表面改性設(shè)備分子涂層 存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-08-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)設(shè)備 是行業(yè)先的深槽刻蝕設(shè)備，可以提供理想的刻蝕速度，但同時(shí)保證側(cè)面特征良好控制和一致性。武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 等離子刻蝕機(jī)設(shè)備一階段：由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段：武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 紅外后對(duì)準(zhǔn)雙面刻蝕機(jī) 是行業(yè)先的深槽刻蝕設(shè)備，可以提供理想的刻蝕速度，但同時(shí)保證側(cè)面特征良好控制和一致性。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 多功能磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 一階段：由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段：由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 多功能磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)工藝過程參數(shù)，以達(dá)到理想的側(cè)面輪廓。實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)工藝過程參數(shù)，以達(dá)到理想的側(cè)面輪廓。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 多功能磁增強(qiáng)離子刻蝕機(jī) 由于離子體的定向運(yùn)動(dòng)，基面上的聚合物被去除的速度要比在側(cè)壁的去除速度快。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 離子刻蝕機(jī) 深硅刻蝕的主要應(yīng)用包括: MEMS，*封裝（TSV）,功率器件等等。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-04-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 勻膠顯影機(jī) 適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 （水）輥、涂膠槽等部...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 無掩模光刻機(jī) 美國AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)曝光機(jī) OAI在半導(dǎo)體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗(yàn)，通過新的精英級(jí)光刻設(shè)備滿足了日益增長的動(dòng)態(tài)市場(chǎng)挑戰(zhàn)。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 等離子刻蝕機(jī) 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術(shù)的開發(fā)，SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝，比如功率MOSFET和200mm和3...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 手動(dòng)/半自動(dòng)曝光機(jī) 光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： IPG激光劃片機(jī) 能適應(yīng)單晶硅、多晶硅、非晶硅電池劃片和硅、鍺、砷化鎵半導(dǎo)體材料的劃片和切割。比如厚片（如AP公司0.7mm單晶硅多晶硅；1.2mm非晶硅帶等）...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： CMP研磨拋光系統(tǒng) 該機(jī)型是PM5型的升級(jí)版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理，整個(gè)過程全封閉控制，并內(nèi)置自清洗功能，提升對(duì)操作人員的安全保護(hù)；全部采用...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言
詳細(xì)摘要： ALD原子層沉積系統(tǒng) 存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：武漢市更新時(shí)間：2021-03-22 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
