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等離子清洗機(jī)所產(chǎn)生的等離子體，不僅具有清除有機(jī)物和無(wú)機(jī)物的清潔特性，而且等離子清洗機(jī)賦予了材料表面新的實(shí)用性能，如抗靜電性、親水性、染色性（高分子材料）耐磨、耐腐蝕性（金屬材料）；清洗、刻蝕、去膠等（半導(dǎo)體材料）；吸光性
等離子體清洗機(jī)作為一種的干式清洗技術(shù)，具有色環(huán)綠保等特點(diǎn)，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，等離子清洗機(jī)也在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用越來(lái)越多。
等離子體清洗機(jī)在處理晶圓表面光刻膠時(shí)，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機(jī)物，也可以通過(guò)等離子活化和粗化作用，對(duì)晶圓表面進(jìn)行處理，能有效提高其表面浸潤(rùn)性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機(jī)干式處理的可控性更強(qiáng)，一致性更好，并且對(duì)基體沒(méi)有損害。
