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等離子清洗機晶圓光刻膠去除蝕刻工藝

2021-5-19  閱讀(1487)

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等離子清洗機技術(shù)特點是不分處理對象,可處理不同的基材。無論是金屬、半 導體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯 乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚脂、環(huán)氧樹 脂等高聚物)都可用等離子體清洗機很好地處理。因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗。

等離子體清洗機去除晶圓表面光刻膠

等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時,等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物,也可以通過等離子活化和粗化作用,對晶圓表面進行處理,能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學方法,等離子體清洗機干式處理的可控性更強,一致性更好,并且對基體沒有損害。等離子清洗機在完成清洗去污的同時,還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等。

 

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