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等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備是針對晶圓處理設(shè)計(jì)，適用于晶圓級和3D封裝應(yīng)用的理想設(shè)備。等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、有機(jī)污染去除等
? 去除光刻膠
? 晶圓打膠
? 濕法刻蝕前的晶圓清潔
? 去除 SU-8
? 清潔和表面活化
? 化學(xué)微量分析中的低溫材料灰化
? 過濾器和濾膜的清潔
? 晶圓打膠
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? 去除 SU-8
? 清潔和表面活化
? 化學(xué)微量分析中的低溫材料灰化
? 過濾器和濾膜的清潔
等離子體清洗機(jī)的特定用途：
第一：清潔；可能有些工件表面本來很臟，比如注塑件表面的脫模劑，玻璃表面的殘膠等，有時(shí)候脫模劑肉眼無法觀察到，但的確存在，那么這時(shí)候就需要我們進(jìn)行等離子清洗機(jī)處理把污染物清除掉，讓工件表面就是其本身，這就是清潔；清潔的方式有兩種：一種是化學(xué)反應(yīng)，比如高分子的CHO的化合物，我們使用氧氣的等離子體，O+C=CO+CO2，O+2H=H2O等這些反應(yīng)生產(chǎn)氣象的物質(zhì)被真空泵帶走，第二種是物理撞擊，粒子在受電場力的支配下有一定的動(dòng)能和能量，告訴撞擊工件表面，有些小顆?？赡芫蜁?huì)被清除掉；但是粒子很小，小到我們無法想象，所以他只能撞下比他還要小的東西，所以都是氣象的東西，不會(huì)對工件表面造成傷害；
第二：活化；物體表面經(jīng)過等離子清洗機(jī)處理讓羥基得以在工件表面存在，這時(shí)候我們將A材料涂敷在工件表面時(shí)，結(jié)合力很好；如果我們將處理過的工件同時(shí)用B涂料涂覆，有可能涂覆的效果就不好，容易脫落；所以活化的概念是引入對應(yīng)的官能團(tuán)、基團(tuán)、化學(xué)鍵（如正電荷或者負(fù)電荷）等，所以等離子清洗機(jī)還有涂覆的功能
第三：凹蝕；兩個(gè)物體接觸時(shí)，都有一個(gè)表面積，兩點(diǎn)間的距離直線最近，兩個(gè)物體接觸時(shí)如果兩個(gè)都很光滑，那么接觸面就是最小的，如果兩個(gè)物體都很粗糙，形成山體形貌，那么這兩個(gè)物體接觸緊密時(shí)，他們的接觸面將大大增大，所以我們的凹蝕就是以這個(gè)原理為基礎(chǔ)，比如我們有時(shí)候在粘接和涂覆前有些工藝有打毛的一道工序，就是如此，只不過我們等離子清洗機(jī)表面處理就是講凹蝕量做到細(xì)微，他的形貌是分子級別的凹蝕，肉眼無法觀察，所以我們是看不出工件表面是否受損，如果進(jìn)行SEM電子顯微鏡的掃描，就看到他們的處理效果；
第一：清潔；可能有些工件表面本來很臟，比如注塑件表面的脫模劑，玻璃表面的殘膠等，有時(shí)候脫模劑肉眼無法觀察到，但的確存在，那么這時(shí)候就需要我們進(jìn)行等離子清洗機(jī)處理把污染物清除掉，讓工件表面就是其本身，這就是清潔；清潔的方式有兩種：一種是化學(xué)反應(yīng)，比如高分子的CHO的化合物，我們使用氧氣的等離子體，O+C=CO+CO2，O+2H=H2O等這些反應(yīng)生產(chǎn)氣象的物質(zhì)被真空泵帶走，第二種是物理撞擊，粒子在受電場力的支配下有一定的動(dòng)能和能量，告訴撞擊工件表面，有些小顆?？赡芫蜁?huì)被清除掉；但是粒子很小，小到我們無法想象，所以他只能撞下比他還要小的東西，所以都是氣象的東西，不會(huì)對工件表面造成傷害；
第二：活化；物體表面經(jīng)過等離子清洗機(jī)處理讓羥基得以在工件表面存在，這時(shí)候我們將A材料涂敷在工件表面時(shí)，結(jié)合力很好；如果我們將處理過的工件同時(shí)用B涂料涂覆，有可能涂覆的效果就不好，容易脫落；所以活化的概念是引入對應(yīng)的官能團(tuán)、基團(tuán)、化學(xué)鍵（如正電荷或者負(fù)電荷）等，所以等離子清洗機(jī)還有涂覆的功能
第三：凹蝕；兩個(gè)物體接觸時(shí)，都有一個(gè)表面積，兩點(diǎn)間的距離直線最近，兩個(gè)物體接觸時(shí)如果兩個(gè)都很光滑，那么接觸面就是最小的，如果兩個(gè)物體都很粗糙，形成山體形貌，那么這兩個(gè)物體接觸緊密時(shí)，他們的接觸面將大大增大，所以我們的凹蝕就是以這個(gè)原理為基礎(chǔ)，比如我們有時(shí)候在粘接和涂覆前有些工藝有打毛的一道工序，就是如此，只不過我們等離子清洗機(jī)表面處理就是講凹蝕量做到細(xì)微，他的形貌是分子級別的凹蝕，肉眼無法觀察，所以我們是看不出工件表面是否受損，如果進(jìn)行SEM電子顯微鏡的掃描，就看到他們的處理效果；
