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為了提高玻璃面板的強(qiáng)度和硬度,在化學(xué)鋼化前需要進(jìn)行清洗,如果清洗不良,則影響增強(qiáng)效果。傳統(tǒng)的清洗方法是先用洗滌劑刷洗,再用酸液、堿液與有機(jī)溶劑超聲波清洗,工序復(fù)雜,費(fèi)時(shí)費(fèi)工,且造成污染。等離子清洗機(jī)設(shè)備空間聚集的離子、電子、激發(fā)態(tài)原子、分子及自由基均為活性粒子,易于和材料表面發(fā)生反應(yīng),因而在滅(菌)、表面改性、薄膜沉積、刻蝕加工、器件清洗等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,但放電和反應(yīng)室均處于真空。等離子清洗機(jī)對(duì)基片表面吸附的環(huán)境氣體、水汽、污物等進(jìn)行轟擊,使其活化,使表面清潔,提高表面能量,當(dāng)沉積時(shí)薄膜原子或
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等離子處理機(jī)對(duì)激光微盲孔結(jié)構(gòu)的清洗
激光微盲孔結(jié)構(gòu)的清洗是如何被等離子體清洗機(jī)解決的呢?隨著HDI板孔徑的微小化,傳統(tǒng)的化學(xué)清洗工藝已不能滿足盲孔結(jié)構(gòu)的清洗,液體表面張力使藥液滲透進(jìn)孔內(nèi)有困難,特別是在處理激光鉆微盲孔板時(shí),可靠性不好。目前應(yīng)用于微埋盲孔的孔清洗設(shè)備主要有超聲波清洗機(jī)和等離子體清洗機(jī),超聲波清洗主要依據(jù)空化效應(yīng)來達(dá)到清洗的目的,屬于濕法處理,清洗時(shí)間較長(zhǎng),且依賴于清洗液的去污性能,增加了對(duì)廢液的處理問題?,F(xiàn)階段普遍應(yīng)用的工藝主要為等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)是∶它不分處理對(duì)象,可處理不同的基材;如金屬、半導(dǎo)體 -
等離子清洗機(jī)在光學(xué)隱形眼鏡上的應(yīng)用
離子體清洗機(jī)在光學(xué)隱形眼鏡上主要是在鍍膜前活化隱形眼鏡鏡片的材料,和侵蝕材料表面,暴露出下面的表層。等離子清洗機(jī)可以替代難用又耗時(shí)而且價(jià)格還很昂貴的化學(xué)濕化方法。利用等離子處理設(shè)備可以降低其成本,另外對(duì)產(chǎn)品本身也沒有任何的影響,不會(huì)影響其性能。用于制造隱形眼鏡的玻璃模具帶有成型時(shí)產(chǎn)生的聚合物污染層(例如CR-39或PC)和/或脫模劑。通常用濕法清洗來洗掉這些殘余物,但隨之而來的不*的噴淋、水痕、建造清洗槽等會(huì)影響表面的美性,而用等離子體清洗機(jī)可以很好地清潔這些鏡片。并提升產(chǎn)品的性能,以達(dá)到的效果 -
等離子表面處理設(shè)備也叫等離子清洗機(jī),是將高頻高壓施加于放電電極上,以產(chǎn)生大量的等離子氣體,與處理對(duì)象的表面分子直接或間接作用,使其表面分子鏈上產(chǎn)生羰基和含氮基團(tuán)等極性基團(tuán),表面張力明顯提高,加之糙化其表面去油污、水氣和塵垢等的協(xié)同作用改善表面的粘附性,達(dá)到表面預(yù)處理的目的等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過等離子清洗機(jī)的處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
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等離子清洗機(jī)采用“MicrowaveRadicalPlasmaSource+RFBias”配置,可實(shí)現(xiàn)高自由基密度及可控的等離子體密度,保證了高的刻蝕速率和低的工藝損傷,滿足PRStrip及工藝中制程高效、低損、高均勻性的要求。等離子清洗設(shè)備配置了全自動(dòng)化搬運(yùn)系統(tǒng),可兼容4、6、8英寸晶圓,可配置4個(gè)工藝位,產(chǎn)出率高。靈活的系統(tǒng)配置,適合集成電路客戶的不同應(yīng)用,可為客戶提供全面的等離子去膠工藝解決方案。此外,等離子清洗設(shè)備可根據(jù)客戶要求拓展產(chǎn)品功能和PM數(shù)量,具備良好的技術(shù)擴(kuò)展性,滿足多種工藝制
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等離子清洗機(jī)對(duì)半導(dǎo)體晶圓去膠和封裝預(yù)處理
專為半導(dǎo)體晶圓去膠和封裝預(yù)處理設(shè)計(jì)的等離子清洗機(jī),采用全自動(dòng)晶圓搬運(yùn)系統(tǒng),每個(gè)腔室獨(dú)立控制,采用多元化配置,滿足大批量生產(chǎn)的需求。多樣化配置設(shè)計(jì),可滿足不同的工藝需求。緊湊的模塊化設(shè)計(jì),滿足高產(chǎn)能輸出的需求。等離子清洗機(jī)對(duì)半導(dǎo)體晶圓去膠和封裝預(yù)處理的應(yīng)用:聚合物剝離金屬剝離掩膜材料去除高劑量離子注入后光刻膠去除碳化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦生產(chǎn)線光刻膠去除晶圓表面預(yù)處理手機(jī)等離子表面處理設(shè)備的應(yīng)用:1、手機(jī)蓋板:手機(jī)蓋板生產(chǎn)中,手機(jī)蓋板需要進(jìn)行鍍膜,鍍膜前為了鍍膜附著力高2、LED行業(yè)-支架清洗 -
等離子清洗機(jī)是一種非常的清洗技術(shù),簡(jiǎn)單來說,等離子清洗機(jī)就是等離子體和材料表面進(jìn)行相互作用的過程,通過等離子體里面的各類活性粒子撞擊材料表面,從而大大提高材料表面的性能。第一,通過等離子清洗機(jī)表面改性之后,其材料表面會(huì)變得更加粗糙,有時(shí)候表面行蹤也會(huì)發(fā)生一段的變化,這就是等離子表面改性所起到作用,它讓材料表面發(fā)生了刻蝕,在一定程度上滿足了人們對(duì)材料表面的清洗要求。第二,經(jīng)過等離子清洗機(jī)表面改性之后,材料表面就會(huì)更具有反應(yīng)活性,在這個(gè)過程中,活性粒子在撞擊材料表面之后,其分子間的化學(xué)鍵就會(huì)被打開,
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等離子表面處理機(jī),低溫常溫等離子清洗機(jī):金屬、陶瓷、塑料、橡膠、玻璃等表面常常會(huì)有油脂油污等有機(jī)物及氧化層,在進(jìn)行粘接、綁定、油漆鍵合焊接銅焊和PVD、CVD涂覆前,需用等離子處理設(shè)備來得到*潔凈和無氧化層的表面。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)、航空航天技術(shù)、精密機(jī)械、汽車工業(yè)、醫(yī)療、塑料、考古、印刷、納米技術(shù)、科研開發(fā)、液晶顯示屏、電子電路、通訊及手機(jī)零部件等廣泛的行業(yè)中有著不可替代的應(yīng)用plasma等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過等離子清洗機(jī)的表面處