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日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外，樣品臺是浮動的，以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單，只需按下按鈕，沒有任何技巧。它很小，不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設備。
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
| 電源 | AC100V（單相100V 10A）3P插頭帶地線1口 |
| 旋轉泵 | 10 L/min（內(nèi)置于設備中） |
| 設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm （設備重量：14.6Kg） |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm（硬玻璃） |
| 樣本表大小 | 直徑50mm（浮動法） |
| 電極樣品臺間隔 | 35 mm（使用輔助樣品臺時為 25 mm） |
| 靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
| 目標金屬規(guī)格 | Φ51mm，厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag |
本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外，樣品臺是浮動的，以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單，只需按下按鈕，沒有任何技巧。它很小，不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設備。
規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
| 電源 | AC100V（單相100V 10A）3P插頭帶地線1口 |
| 旋轉泵 | 10 L/min（內(nèi)置于設備中） |
| 設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm （設備重量：14.6Kg） |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm（硬玻璃） |
| 樣本表大小 | 直徑50mm（浮動法） |
| 電極樣品臺間隔 | 35 mm（使用輔助樣品臺時為 25 mm） |
| 靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
| 目標金屬規(guī)格 | Φ51mm，厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag |
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