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SE-L光譜橢偏儀

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更新時間：2022-11-05 15:11:50瀏覽次數(shù)：270次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產(chǎn)品簡介

SE-L光譜橢偏儀

詳細介紹

產(chǎn)品簡介：SE-L光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技技術，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析。SE-L光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。

產(chǎn)品型號	SE-L光譜橢偏儀
主要特點	1、高精度自動測量光學橢偏測量解決方案 2、全自動變角、調焦等控制平臺，一鍵快速測量 3、軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷 4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力 5、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 6、高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 7、全自動橢偏測量技術，基于行業(yè)電機控制技術，全自動調整測量角度，高精度控制樣件臺，實現(xiàn)樣件快速自動對準找焦 8、頤光技術確保在寬光譜范圍內，提供優(yōu)質穩(wěn)定的各波段光譜 9、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料
技術參數(shù)	1、自動化程度：自動變角 2、應用定位：自動型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R/T等光譜 4、分析光譜：380-1000nm(可擴至193-2500nm) 5、單次測量時間：0.5-5s 6、重復性測量精度：0.01nm 7、光斑大?。捍蠊獍?-3mm,微光斑200um 8、入射角調節(jié)方式：自動變角 9、入射角范圍：45-90° 10、找焦方式：自動找焦 11、Mapping行程：支持100x100mm(可選配) 12、支持樣件尺寸：至200mm
可選配置	波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇自動:45-90° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺:室溫一600℃(供參考,按需定制)
可選配件	1	溫控臺
	2	Mapping擴展模塊
	3	真空泵
	4	透射吸附組件