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Scanning Electron Microscope(SEM)掃描電子顯微鏡 (SEM)掃描電子顯微鏡

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更新時間:2023-09-05 08:39:32瀏覽次數(shù):282次

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產(chǎn)品簡介

的背散射電子探測始終可保證良好的材料襯度,即使是以低電壓和小束流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行TV速率成像是也不例外

詳細介紹

的背散射電子探測始終可保證良好的材料襯度,即使是以低電壓和小束流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像是也不例外;

特點:
● 全面實現(xiàn)納米或亞納米分辨性能,從納米顆粒、粉末、催化劑和納米器件到塊狀磁性樣品等材料;
● 的背散射電子探測始終可保證良好的材料襯度,即使是以低電壓和小束流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像是也不例外;
● 無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結合,讓用戶能夠獲得至關重要的對比或信號強度;
● 各種各樣的荷電緩解策略,包括樣品倉壓力為 500 Pa 的低真空模式,可實現(xiàn)任何樣品的成像;
● 的分析平臺提供高電子束電流,而且束斑很小。倉室支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS和 EBSD 以及針對分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng);
● 樣品處理和導航極容易,具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+

主要技術性能指標

● 分辨率:高真空:0.7~1.8nm; 低真空: 1.0~1.8nm;
● 加速電壓: 100V, 500V, 1KV, 3KV, 15KV, 20KV;
● 電子束電流: 1pA ~ 400nA,冷場發(fā)射式;
● 著陸能量范圍: 20eV ~ 30KeV;
● 水平視場寬: 10mm工作距離下為3.0mm(對應于最小放大倍率X29);
● 倉室:內(nèi)寬340mm,分析工作距離10mm;EDS出射角35°;
● 載物臺X-Y范圍:110mm * 110mm;
● 重復性:< 3.0μm (0°傾斜時);
● 電動Z軸:65mm;
● 旋轉(zhuǎn):n * 360°;
● 樣品高度和重量:距共心點85mm, 任意載物臺位置均為500g,當0°傾斜時為2Kg;
● 樣品尺寸:可沿X-Y軸旋轉(zhuǎn)時直徑為122mm;
● 抽氣時間: ≤ 3.5 分鐘;
● 最多可安裝四個探測器,包含EDS探測器(用于化學元素分析);
● Windows 7 / Windows 10操作系統(tǒng);
● 圖像導航和圖像分析軟件。

主要應用:

● 芯片等樣品高分辨率觀測;
● 失效點抓拍記錄;
● 芯片內(nèi)部電路拍照。



關鍵詞:催化劑 芯片
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