污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
廣東新一辰設(shè)備有限公司
廣東新一辰設(shè)備有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地東莞市
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時間：2025-02-24 09:12:09瀏覽次數(shù)：252次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線多樣品分析平臺宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進行簡單易用全自動操作，在幾分鐘內(nèi)即可開始測量，而不是幾小時！真正的共聚焦高空間分辨率，自動樣品臺，全顯微鏡可視化
多樣品分析平臺
宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進行
簡單易用
全自動操作，在幾分鐘內(nèi)即可開始測量，而不是幾小時！
真正的共聚焦
高空間分辨率，自動樣品臺，全顯微鏡可視化。
高收集效率
頂部和側(cè)向拉曼光譜檢測都可以獲得高分辨和高通量測量同區(qū)域和針尖增強光譜測量（TERS和TEPL)
高光譜分辨率
高光譜分辨能力，多光柵自動切換，寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析。
高空間分辨率
針尖增強的納米級光譜分辨率（優(yōu)于10nm）
豐富的光學(xué)光譜（拉曼和光致發(fā)光）
多技術(shù)/多環(huán)境
結(jié)合TERS/TEPL化學(xué)成像的多模式SPM技術(shù)包括AFM、導(dǎo)電和電學(xué)模式（cAFM、KPFM）、STM、液池和電化學(xué)環(huán)境。一個工作站和強大的軟件即可對兩臺儀器進行控制，SPM和光譜儀可以同時或獨立操作。
堅固性/穩(wěn)定性
高共振頻率AFM掃描器，遠離噪音干擾！高性能表現(xiàn)，無需主動隔振系統(tǒng)。
配置
閉環(huán)平板掃描器： 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10 %)
掃描器非線性：XY≤0.05 %; Z≤0.05 %
噪聲水平：XY≤0.1 nm RMS（200 Hz帶寬，電容傳感器打開）；XY≤0.02 nm RMS（100 Hz帶寬，電容傳感器關(guān)閉）；Z<0.04 nm="" rms="" （1000="">
高頻掃描器：XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz
X, Y, Z自動趨近：XYZ數(shù)字閉環(huán)控制，Z向馬達趨近距離18mm
樣品尺寸：40 mm x 50 mm x 15 mm
樣品定位：自動樣品臺范圍：5 mm x 5 mm
定位精度：1µm
激光波長：1300nm（光譜檢測器無干擾）
激光準直：全自動懸臂—光電二極管激光準直
探針通道：為外部操作和探針提供自由通道
標準模式：接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、相位成像模式、側(cè)向力模式（LFM）、力調(diào)制模式、磁力顯微鏡模式（MFM）、開爾文探針模式（表面電勢，SKM，KPFM）、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式（EFM）、力曲線測量、壓電響應(yīng)模式（PFM）、納米蝕刻、納米操縱
升級模式：溶液環(huán)境接觸模式、溶液環(huán)境半接觸模式、導(dǎo)電力顯微鏡模式、STM模式、光電流成像模式、伏安特性曲線測量等
共聚焦拉曼、熒光和光致發(fā)光光譜和成像
針尖增強拉曼光譜（AFM，STM等）
針尖增強熒光
近場光學(xué)顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)
電流范圍：100fA~10µA;三檔量程自動切換（1 nA, 100 nA 和 10 µA）
頂部和側(cè)向能夠同時使用消色差物鏡：從頂部或側(cè)向可用100X，NA0.7物鏡；可同時使用20倍和100倍
長期光譜激光穩(wěn)定對準的閉環(huán)壓電物鏡掃描器：20µm x 20µm x 15µm；
分辨率：1nm
全自動緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀，可獨立使用顯微拉曼光譜儀
波長范圍：75cm-1至4000 cm-1
光柵：四光柵自動切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)
自動化：全自動，軟件控制操作
全光譜范圍CCD和EMCCD檢測器。
典型波長：532nm、638nm、785nm；其它波長可根據(jù)需求提供
自動化：全自動，軟件控制操作
集成軟件包，包括全功能SPM、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件，包括光譜擬合、去卷積和濾波，可選模塊包括單變量和多變量分析套件（PCA、MCR、HCA、DCA），顆粒檢測和光譜搜索功能。
典型應(yīng)用
本應(yīng)用報告介紹了對電子束光刻法制造的石墨烯納米帶（GNRs）的TERS表征。TERS可實現(xiàn)的化學(xué)納米尺度分辨率揭示了GNRs邊緣的無定形碳的存在，并定位了有機殘留物。TERS可以被認為是表征納米石墨烯的一個有價值的工具，這是開發(fā)基于石墨烯的納米設(shè)備的一個重要步驟。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
