MATRIX-F 是一款專用 FT-NIR過程光譜儀，經(jīng)得任何考驗(yàn)。儀器使用的光譜技術(shù)，在緊湊的模塊系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)出色的靈敏性和穩(wěn)定性。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)提供始終如一的高質(zhì)量檢測(cè)結(jié)果，并節(jié)約停機(jī)時(shí)間，模型直接傳遞，在新應(yīng)用中并不會(huì)降低靈敏度和精度。支持工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議，確保輕松集成。MATRIX-F 可安裝在實(shí)驗(yàn)室作為一立式系統(tǒng)，開發(fā)合適的方法，并可直接轉(zhuǎn)到您的過程應(yīng)用分析。使用NEMA 4/I......

詳細(xì)介紹

傅立葉近紅外分析技術(shù)的實(shí)時(shí)在線監(jiān)控的優(yōu)勢(shì)已。然而，傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且，測(cè)量點(diǎn)有時(shí)很難接近，甚至是防爆等危險(xiǎn)區(qū)。

通過利用光纖技術(shù)，MATRIX-F 主機(jī)可與實(shí)測(cè)點(diǎn)相距數(shù)百米，將探頭直接安裝在采樣點(diǎn)，大大簡(jiǎn)化了工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試的難度。此外，當(dāng)環(huán)境特別惡劣時(shí)可將主機(jī)置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi)，這樣可以消除溫度影響，進(jìn)一步優(yōu)化光譜儀的性能，還可以保護(hù) MATRIX-F，防止其遭受過度污垢和灰塵。

常見的過程控制包括監(jiān)測(cè)化學(xué)反應(yīng)以及中間產(chǎn)品和成品的質(zhì)量：

直接監(jiān)測(cè)生產(chǎn)反應(yīng)器和管道中樣品
遠(yuǎn)距離測(cè)量
加深過程理解和控制
用于測(cè)定不同行業(yè)混合過程均勻性、化學(xué)品組分濃度和聚合過程狀態(tài)的理想工具

MATRIX-F 是目前的只用一臺(tái)儀器就可對(duì)物料進(jìn)行接觸式測(cè)量和非接觸式測(cè)量的光譜儀。有不同的測(cè)量附件可供使用：

光纖探頭：可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長(zhǎng)度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗(yàn)性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷
非接觸式測(cè)量的發(fā)射探頭：非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進(jìn)行遠(yuǎn)程非接觸式測(cè)量，實(shí)現(xiàn)一系列全新應(yīng)用。它可以提供多達(dá)六個(gè)流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F duple。

關(guān)鍵詞：光譜儀

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